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參考價	面議

產(chǎn)品簡介

近場光度分布測量，建立光線模型為光源的二次光學(xué)設(shè)計和研發(fā)提供準(zhǔn)確的依據(jù)

詳細(xì)介紹

典型應(yīng)用場景

AR/VR用的Micro-LED微顯示器、投影用的Micro/Mini-LED模組以及LED、OLED光源與燈具等光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計，無不需要Micro/Mini-LED的近場光分布信息。GO-NFM3200 Micro/Mini近場分布光度計（也稱燈具配光曲線測試系統(tǒng)或光強(qiáng)分布測試儀）專用于解決這類光源的近場光分布測量，可用于10μm-2mm如Micro-LED、Micro-OLED等微型顯示芯片的近場測量。

主要特點

近場測量獲得齊全光色度參數(shù)

近場光度分布測量將被測光源看作復(fù)雜的面或體，從發(fā)光面出發(fā)的每根光線的起點、方向和通量，為光源合格評定和后續(xù)光學(xué)設(shè)計提供精準(zhǔn)數(shù)據(jù)。

高靈敏度光輻射測量

采用高靈敏的光度探頭和光譜輻射計，結(jié)合具有極低亮度探測能力的成像亮度測量部件，可實現(xiàn)高靈敏度光色測量。

實現(xiàn)被測樣品的精確對準(zhǔn)

采用圖像識別技術(shù)結(jié)合電動微動平臺實現(xiàn)被測對象的自動對準(zhǔn)，解決了Micro/Mini-LED空間光場測量中對準(zhǔn)難、發(fā)光弱、光色易漂移的難題，支持實現(xiàn)可對比、可復(fù)現(xiàn)的精準(zhǔn)測量。

主要技術(shù)指標(biāo)

型號	GO-NFM3200
A軸（成像測量設(shè)備轉(zhuǎn)動中心）轉(zhuǎn)動范圍	-40°~+90°
C軸（水平載物臺饒垂直軸）轉(zhuǎn)動范圍	0°~360°
角度精度	±0.1°
三向調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)范圍	前后、左右：±3mm，上下：0~5mm
被測樣品基板尺寸	≤30 mm
光線文件輸出格式	Tracepro 和 Lighttools光學(xué)設(shè)計軟件兼容格式（RAY和TXT文件）
光強(qiáng)數(shù)據(jù)文件輸出格式	.GOS .CIE .CEN IES .Tm14 .CIB *.LDT