詳細(xì)介紹


1.中心加載力方式,一次性固定六個(gè)樣品,完成全部研磨拋光過(guò)程,保證磨拋出各個(gè)樣品的完整平面
2.獨(dú)立控制磨拋盤(pán)和樣品盤(pán):轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù);
3.觸摸屏界面:磨拋參數(shù)設(shè)定方便,狀態(tài)顯示直觀,操作簡(jiǎn)單;
4.加載力可以在運(yùn)行中調(diào)整,靈活方便。
5.通過(guò)用電磁閥來(lái)控制水的通斷。
6.輕松更換磁性防粘盤(pán),就能完成各種試樣的粗、精磨及粗、精拋光等所有工序, 一盤(pán)等效于N個(gè)盤(pán)。
7.精度高,運(yùn)行平穩(wěn),噪音低。
8.樣品磨去層厚度控制:精準(zhǔn)控制樣品的磨去量,磨到指定位置 (選配);
9.外部滴液器控制:外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (選配);


| 規(guī)格 | WMP-1000X | WMP-2000X | |
| 工位 | 單盤(pán) | 雙盤(pán) | |
| 工作盤(pán)直徑 | 標(biāo)配φ254mm帶有磁性轉(zhuǎn)換盤(pán)系統(tǒng) | ||
| 磨盤(pán)轉(zhuǎn)速 | 100-1000轉(zhuǎn)/分 轉(zhuǎn)向正反轉(zhuǎn)可以切換 | ||
| 研磨頭轉(zhuǎn)速 | 0-100r/min | ||
| 制樣時(shí)間范圍 | 0-9999s | ||
| 加載力范圍 | 30-200N | ||
| 加載力方式 | 中心加載 | ||
| 樣品夾持器 | 標(biāo)配φ30mm六個(gè)(選配φ40-φ50mm四個(gè),其余可定制) | ||
| 電源 | AC220V,50HZ | ||
| 電機(jī)功率 | 0.75Kw | ||
| 外形尺寸(長(zhǎng)*寬*高) | 760 x 470 x 700 | 760 x 730 x 700 | |
| 重量 | 90kg | 120kg | |
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