詳細介紹
系統(tǒng)原理
調(diào)制器通過一根特殊制備的調(diào)制柱連接一維與二維色譜柱,通過擺動部件,使調(diào)制柱在冷區(qū)(-50℃)與熱區(qū)(320℃)脈沖穿梭。實現(xiàn)將一維色譜柱的餾出組分冷富集,并脈沖熱釋放至二維柱中,實現(xiàn)全二維調(diào)制。

系統(tǒng)特點
可適配所有市售GC/GCMS,安裝后升級成全二維系統(tǒng)。
獨立模塊設計,體積小巧,即插即用,可快速完成安裝與拆卸。
利用半導體制冷和直接加熱實現(xiàn)快速的調(diào)制,擺脫了液氮和其他制冷劑的使用,降低GC×GC技術(shù)的使用難度和使用成本。
通過不同調(diào)制柱搭配,可實現(xiàn)C2-C40+范圍物質(zhì)的全二維調(diào)制,可根據(jù)需求定制。
調(diào)制周期可根據(jù)應用需求靈活設置,可程序變化,優(yōu)化二維色譜分離效果。
調(diào)制器對柱箱溫度無擾動,可單獨設置溫度,保障設備性能。
全二維數(shù)據(jù)處理工作站具備全自動分析流程,包含自動峰識別、斑點檢測、族類劃分、自動解卷積、NIST庫檢索等功能,可實現(xiàn)全二維數(shù)據(jù)可視化。
系統(tǒng)參數(shù)
| 技術(shù)指標 | 技術(shù)參數(shù) |
| 技術(shù)原理 | 半導體制冷兩級熱調(diào)制 |
| 制冷媒介 | 多級TEC |
| 調(diào)制范圍 | 根據(jù)調(diào)制柱進行選擇:C2-C14/C5-C30/C7-C40/C9-C40+ |
| 調(diào)制周期(冷聚焦) | >1s,可調(diào) |
| 調(diào)制周期(熱釋放) | >1s,可調(diào) |
| 溫度 | 40℃ ~ 320℃,支持程序升溫 |
| 溫度 | -50 ℃ ~ 15℃,支持程序升溫 |
| 二維峰寬 | 100ms FWHH (n-C18正構(gòu)烷烴典型值) |
| 調(diào)制流量 | 0.5-20ml/min(可使用AUX EPC) |
| 尺寸 | 234mm * 135mm * 168mm |
| 重量 | 4kg |
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