激光化學(xué)開(kāi)封機(jī)NSC IC開(kāi)見(jiàn)證PL201配備光纖激光器，與傳統(tǒng)式固體激光器比照，激光/化學(xué)開(kāi)封機(jī)它具有更低的直接成本和更長(zhǎng)的使用期。

從鈍化到層間膜

氣體流量、真空條件、射頻匹配由系統(tǒng)自動(dòng)控制。該系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單，只需選擇配方并按下啟動(dòng)按鈕即可啟動(dòng)刻蝕。

射頻發(fā)生器、真空控制系統(tǒng)和溫度控制單元已經(jīng)升級(jí)，以提高蝕刻穩(wěn)定性和可重復(fù)性。

ES403可以刻蝕高達(dá)8英寸的晶圓片，以及使用可選適配器的小型設(shè)備，如IC包。ES403提供穩(wěn)定和**的蝕刻，其高性能真空系統(tǒng)由渦輪分子泵、質(zhì)量流量控制器和蝶閥控制。