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詳細(xì)介紹
主要特點
我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。
1.與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較，生長溫度更低。
2.使用滑軌爐實現(xiàn)快速升溫和降溫。
3.設(shè)備的技術(shù)使得整管輝光均勻等效，均勻生長。
技術(shù)參數(shù)
| 三溫區(qū)滑軌爐 BTF-1200C-III- SL | 爐管尺寸 | 外徑Φ100*2330mm（可選） |
| 極限溫度 | 1200℃ | |
| 工作溫度 | ≤1100 ℃ | |
| 溫度控制器 | PID自動控制晶閘管（可控硅）輸出功率， 30段可編程控制器 | |
| Z快升溫速率 | ≤20℃/min | |
| 加熱區(qū) | 300+300+300mm | |
| 恒溫區(qū) | 150+200+150mm | |
| 控溫精度 | ±1 ℃ | |
| 電源 | 單相220V，交流50Hz | |
| 4路質(zhì)量流量供氣系統(tǒng) | Z大電壓 | 185~245V/50Hz |
| Z大輸出功率 | 18W | |
| 流量計標(biāo)準(zhǔn)量程 | 100，200,200，500SCCM；（非特殊以氮氣標(biāo)定，量程可選定 | |
| 工作溫度 | 5~45 oC | |
| 工作壓差 | 0.1～0.5 MPa | |
| Z大壓力 | 3MPa | |
| 準(zhǔn)確度 | ±1.5% FS | |
| 測量范圍 | -0.1~0.15 MPa（0.01 MPa/grid） | |
| 針閥 | 316不銹鋼 | |
| 混氣罐 | Φ80×120mm | |
| 截止閥 | Φ6mm"316不銹鋼針閥 | |
| 尺寸 | 600*600*650mm | |
| 低真空系統(tǒng) | 空氣相對濕度 | ≤85% |
| 工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ | |
| 功率 | 500W | |
| 抽氣速率 | 10m3/h | |
| 極限真空 | 4X10-2Pa | |
| 實驗真空度 | 1.0X10-1Pa | |
| 容油量 | 1.1L | |
| 進(jìn)氣/排氣口徑 | KF25 | |
| 噪音 | 50dB | |
| 外形尺寸 | 600×600×600mm | |
| 射頻電源 | 信號頻率 | 13.56MHz±-0.005% |
| 射頻功率輸出范圍 | 5W-500W | |
| Z大反射功率 | 200W | |
| 射頻輸出接口 | 50Ω。N-type,female | |
| 功率穩(wěn)定度 | ±0.1% | |
| 諧波分量 | ≤-50dbc | |
| 供電電壓 | 單相50/60Hz 220v±10% | |
| 整機(jī)效率 | >=70% | |
| 功率因素 | >=90% | |
| 冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷 |
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