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大型卷對(duì)卷連續(xù)石墨烯膜生長(zhǎng)設(shè)備

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StockrollAnnealingzoneGrowthzone主要特點(diǎn)基于廣大科研界對(duì)實(shí)現(xiàn)大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對(duì)卷宏量制備的需求,我公司開發(fā)出一種新的卷對(duì)卷連續(xù)快速生長(zhǎng)石墨烯薄膜的方法,設(shè)計(jì)并研制了可達(dá)到中試水平的石墨烯卷對(duì)卷化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),通過對(duì)石墨烯成核與生長(zhǎng)的調(diào)控實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)石墨烯薄膜生長(zhǎng)

詳細(xì)介紹

Stock roll

Annealing zone

Growth zone

主要特點(diǎn)

基于廣大科研界對(duì)實(shí)現(xiàn)大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對(duì)卷宏量制備的需求,我公司開發(fā)出一種新的卷對(duì)卷連續(xù)快速生長(zhǎng)石墨烯薄膜的方法,設(shè)計(jì)并研制了可達(dá)到中試水平的石墨烯卷對(duì)卷化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),通過對(duì)石墨烯成核與生長(zhǎng)的調(diào)控實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)石墨烯薄膜生長(zhǎng);此款設(shè)備是快速冷卻卷對(duì)卷等離子體增強(qiáng)CVD連續(xù)生長(zhǎng)爐,它由高溫生長(zhǎng)腔體,三路質(zhì)量流量計(jì)氣路系統(tǒng),真空機(jī)組,RF射頻電源模塊,石英管,冷卻裝置,收放銅箔的密封裝置,自動(dòng)化控制系統(tǒng)組成,兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放銅箔的密封裝置),收放銅箔的密封裝置內(nèi)分別對(duì)應(yīng)安裝有放卷滾輪和收卷滾輪,所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具有快速冷卻、連續(xù)生長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn),可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規(guī)?;L(zhǎng)。

技術(shù)參數(shù)

額定功率

KW

3

額定電壓

V

AC 208-240V 50/60 Hz

Z高溫度

℃

1200

持續(xù)工作溫度

℃

≤1100℃

推薦升溫速率

℃/min

≤30℃/min

爐管尺寸

mm

高純石英管Φ100×1400mm(可使用基底銅箔寬度≤80mm)(其他尺寸可定制)

加熱區(qū)長(zhǎng)度

mm

400

恒溫區(qū)長(zhǎng)度

mm

200

控溫方式

人機(jī)界面加PLC控制,10寸液晶屏控制,數(shù)字工控儀表雙控,采用工業(yè)智能控溫儀表和軟件實(shí)現(xiàn)雙控,采用模糊型PID控制。

無紙記錄

1、內(nèi)置存儲(chǔ)記錄運(yùn)行工藝數(shù)據(jù),外接USB接口,可以電腦連接一鍵拷貝數(shù)據(jù)。

2、系統(tǒng)采用自動(dòng)化工藝流程,設(shè)定好工藝一鍵操作。降低人為因素,工藝可靠性可以達(dá)到99.9%。

控溫精度

℃

±1

加熱元件

進(jìn)口電阻絲

真空進(jìn)料腔

進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室與出料排氣腔體外殼以亞克力為主要材料,電機(jī)帶動(dòng)銅箔在密閉生長(zhǎng)條件下運(yùn)動(dòng),并通過冷卻裝置后收緊成卷。

氣路系統(tǒng)配制

內(nèi)部裝有高精度質(zhì)量流量計(jì)可準(zhǔn)確的控制氣體流量;設(shè)有靜態(tài)混氣室,有助于氣體充分混合,按要求配比。

射頻電源配制

RF射頻電源等離子輔助模塊,大大降低了石墨烯的生長(zhǎng)溫度,是銅箔的機(jī)械強(qiáng)度適合連續(xù)收放

真空系統(tǒng)配制

真空機(jī)組內(nèi)含真空泵,數(shù)字真空計(jì)以及相關(guān)的連接調(diào)節(jié)閥,可提供一個(gè)可控的低壓環(huán)境。

認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)

CE

尺寸(長(zhǎng)X寬X高)

mm

2280*600*1280

凈重

Kg

約450


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