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原位高溫紅外漫反射裝置

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更新時間:2023-08-18 13:18:55瀏覽次數(shù):480

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產品簡介

原位高溫紅外漫反射裝置

詳細介紹

簡介:

原位高溫紅外漫反射裝置(HT-DRIFTS-500)是一款適用于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測試的原位裝置。該裝置主要針對于具有高表面積的粉末樣品。采用臺式加熱方式對樣品進行加熱,操作溫度500℃。匹配HARRICK漫反射光路系統(tǒng)。

主要特點:

1. 該原位裝置適配HARRICK漫反射光路系統(tǒng),十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測試;

2. 裝置采用臺式加熱系統(tǒng),樣品臺加熱溫度范圍:RT-500℃,溫度控制精度:±1℃;

3. 采用Pt100溫度傳感器作為溫度探測器,并置于加熱臺內部,樣品正下方處;

4. 裝置主體采用316L不銹鋼制作,具備一定的強度和耐腐蝕性;

5. 樣品臺頂部配備三個窗口,分別是紅外窗口2個和可見光窗口1個;

6. 裝置可進行充氣處理,并可承受一定壓力,壓力調節(jié)范圍:≤3bar;

7. 配備溫度控制器和水冷裝置,用于控制腔體的加熱溫度和整個裝置的表面溫度,其中表面溫度不高于60℃;

8. 可選配件:各類紅外窗口及光學窗口。


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