簡介：

高溫高壓催化原位XAS裝置（HTHPTC-XAS）是一款專門為高溫高壓條件下探測氣固反應(yīng)過程中催化劑電子結(jié)構(gòu)和幾何結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)開發(fā)的原位裝置系統(tǒng)。該原位裝置兼顧了同步輻射X射線吸收譜的兩種常用探測模式（透射模式和熒光模式）。在實(shí)現(xiàn)高溫高壓條件的同時(shí)，還對體系設(shè)置了光窗，可在常規(guī)氣固反應(yīng)的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)光催化反應(yīng)條件。因此，該款原位裝置系統(tǒng)是集合了多種反應(yīng)體系、多種探測模式的綜合型原位裝置系統(tǒng)，應(yīng)用面極廣。

主要特點(diǎn)：

1. 裝置能夠?qū)崿F(xiàn)正常條件下的氣固反應(yīng)，其中樣品尺寸大小可為φ12-15mm的圓片；

2. 裝置能夠?qū)崿F(xiàn)氣固反應(yīng)條件下的同步輻射X射線吸收譜數(shù)據(jù)的在線采集，同時(shí)包括透射模式和熒光模式；

3. 主體腔室的透射窗口尺寸為φ6mm，熒光出光口開角>=30°；

4. 主體腔室進(jìn)光口45°角位置開設(shè)有φ10的光學(xué)窗口，可引入冷頭氙燈光源對樣品進(jìn)行光照處理；

5. 主體腔室能夠?qū)崿F(xiàn)加熱功能，控溫區(qū)為室溫-500℃，控溫精度為±1℃，通過配備的溫控儀來實(shí)現(xiàn)上述控溫操作；

6. 主體腔室能夠?qū)崿F(xiàn)加壓操作，常用壓力范圍為1-8個(gè)大氣壓，裝置耐壓為10個(gè)大氣壓；

7. 主體腔室配備數(shù)控氣壓控制箱，內(nèi)部包含兩個(gè)氣壓控制閥和一個(gè)卸荷閥，能夠保證主體腔室內(nèi)部具備氣壓條件時(shí)的氣體流動(dòng)性；卸荷閥能夠在裝置超出額定氣壓條件下自動(dòng)泄壓，以保證裝置整體的安全性；

8. 主體腔室外殼層設(shè)有水冷裝置，并配備水冷循環(huán)機(jī)保證整體外表面的溫度低于60℃；