原位多用變溫光譜池（DM-LQ-H150-XAFS）是一款測(cè)試液體光譜學(xué)的原位裝置。主體配備加熱功能（無(wú)加壓功能），能在溶劑沸點(diǎn)以下溫度正常工作。配備X射線窗口和可見(jiàn)光窗口，為液體的X射線光譜學(xué)和可見(jiàn)光譜學(xué)研究提供了可能。

主要特點(diǎn)

1. 該裝置能夠?qū)崿F(xiàn)液體在加熱過(guò)程中的原位同步輻射X射線吸收譜測(cè)試（透射模式）；

2. 裝置溫度使用范圍：室溫-120℃（使用溫度需要在實(shí)測(cè)液體的沸點(diǎn)溫度以下操作），溫度控制精度±1℃；

3. 可進(jìn)行液體樣品的同步輻射X射線吸收譜測(cè)試（透射模式）；

4. 液體的樣品厚度可根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)；

5. 裝置整體采用氟膠圈進(jìn)行，保證裝置整體密封性良好；

6. 裝置主要包含加熱腔體一個(gè)、溫度控制器一臺(tái)、兩個(gè)X射線光學(xué)窗口、兩個(gè)可見(jiàn)光窗口；