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詳細介紹
氮化硅薄膜窗口
隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn)，如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展，軟X射線顯微成像技術在范圍內得到迅速發(fā)展。在此領域，需要應用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。
1. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術制備而成；
2. RISUN提供的氮化硅窗選用低應力氮化硅（0-250MP）薄膜，和ST氮化硅薄膜相比，低應力產品更堅固耐用，成為用戶的；
3. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學研究領域，例如，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。
透光度
使用透射（光學）顯微鏡時，可以透過薄膜窗進行觀察。但薄膜窗的厚度有一定限制，否則其透光度會明顯下降。對于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶。
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