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公司動態(tài)

等離子清洗機(jī)/等離子處理機(jī)在IC半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用(一)

發(fā)布時間:2026-1-30

上海昭沅儀器設(shè)備有限公司代理美國PlasmaEtch公司生產(chǎn)的等離子體表面處理設(shè)備。專門針對于大學(xué)/科研機(jī)構(gòu)、工廠研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室型和工廠批量處理裝置,具有移動方便、多種配置功能、超高性能及穩(wěn)定性、操作方便的特點(diǎn)。


隨著智能手機(jī)的飛速發(fā)展,人們對手機(jī)攝像頭像素的要求越來越高,如今用傳統(tǒng)的CSP封裝工藝制造的手機(jī)攝像模組像素己達(dá)不到人們的需求,而用COB/COG/COF封裝工藝制造的手機(jī)攝像模組已被大量的運(yùn)用到了現(xiàn)在的千萬像素的手機(jī)中,但其制造的良率因其工藝特性往往只有85%左右,而造成的手機(jī)良率不高的原因主要在于離心清洗機(jī)和超聲波清洗做不到高潔凈度的清洗holder及Pad表面污染物,致使holder與IR粘接力不高及bonding不良的問題,經(jīng)等離子體處理后能超潔凈的去除holder上的有機(jī)污染物和活化基材,使其與IR粘接力能提高2~3倍,也能去除Pad表面的氧化物并粗化表面,極大的提升了banding的一次成功率。

等離子清洗機(jī)

半導(dǎo)體硅片(Wafer)

集成電路或IC芯片是當(dāng)今電子產(chǎn)品的復(fù)雜基石?,F(xiàn)代IC芯片包括印刷在晶片上的集成電路,并且附接到“封裝”,該“封裝”包含到印刷電路板的電連接,IC芯片焊接在印刷電路板上。用于IC芯片的封裝還提供遠(yuǎn)離晶片的磁頭轉(zhuǎn)移,并且在某些情況下,提供圍繞晶片本身的引線框架。
IC芯片制造領(lǐng)域中,等離子體處理技術(shù)己是一種不可替代的成熟工藝,不論在芯片源離子的注入,還是晶元的鍍膜,亦或是我們的低溫等離子表面處理設(shè)備所能達(dá)到的:在晶元表面去除氧化膜、有機(jī)物、去掩膜等超凈化處理及表面活化提高晶元表面浸潤性。
當(dāng)IC芯片包含引線框架時,晶片上的電連接結(jié)合到引線框架上的焊盤,然后引線框架焊接到封裝上。
等離子清洗機(jī)

一致的鍵合對于IC芯片的可靠性和低故障率是的。為了確保清潔,持久和電阻低的粘合,許多IC制造商利用等離子技術(shù)在膠合或焊接之前清潔每個接觸點(diǎn)。半導(dǎo)體的等離子體處理可以顯著提高可靠性。

PlasmaEtch,Inc.與半導(dǎo)體行業(yè)攜手合作,致力于為各種應(yīng)用提供的等離子處理解決方案。其中一些應(yīng)用包括:
1.清潔:去除材料表面的污染物和殘留物
2.粘接:促進(jìn)材料的直接粘合
3.粘著:準(zhǔn)備涂層,涂漆等表面
4.聚合:通過氣態(tài)單體實(shí)現(xiàn)聚合
5.激活:改變表面屬性以創(chuàng)建功能區(qū)域


半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用

我們的等離子處理系統(tǒng)目前用于以下領(lǐng)域,例如清潔,蝕刻,表面活化和提高可制造性:
半導(dǎo)體封裝和組裝(ASPA),晶圓級封裝(WLP)
封裝,成型
底部填充
線焊
DieAttach
失效分析的解封裝
通過清潔
凹凸粘連
介電圖案
BCB/UBM聚合物粘合劑
晶圓預(yù)處理
剝離/蝕刻
晶圓清潔


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