一、真空鍍膜機技術參數：

    鍍膜機要求為PLC控制，包括蒸鍍過程的控制、顯示裝置，可以顯示膜厚、蒸鍍時間、壓力、加熱溫度等信息；

   1. 系統(tǒng)設置和控制系統(tǒng)：

      1.1 通過PLC進行設置和控制；

      1.2 安全性能設計符合CSA SPE-1000標準；

      1.3 設有手動和自動兩種鍍膜操作模式；

      1.4 系統(tǒng)集成有安全互鎖機構和報警裝置；

      * 1.5 一體化、緊湊化設計，可獨立使用也可與手套箱集成后使用；

      1.6 不同賬戶的安全模式。

2 蒸鍍腔室：

     2.1 矩形蒸鍍腔室，尺寸不小于450mmx365mmx365mm；

     2.2 翻蓋式方腔室結構；

     2.3 腔室拋光處理并安裝有隔離墻裝置；

3 真空系統(tǒng)：

      3.1 DS102機械泵，氣體抽速不低于4cfm；

      * 3.2 主泵普發(fā)分子泵，抽速不低于250l/s，配有Inficon Pirani真空規(guī)及計算機控制顯示功能；

      * 3.3 極限真空度：系統(tǒng)潔凈、空置時可達5x10^-7Torr ；

4.蒸發(fā)源的設計和安裝：

       4.1 系統(tǒng)安裝有4個熱阻蒸發(fā)源；

       4.2 可以實現兩個熱阻蒸發(fā)源之間的共蒸；

      *4.3 熱阻蒸發(fā)源的電源功率不小于2.5kW；

       4.4安裝有2個QCM鍍膜速率檢測探頭，帶有水冷裝置；

       4.5安裝有1個樣品臺擋板；

5 樣品臺的設計：

      5.1可以固定或安裝直徑100mm或4"的樣品或其它異形樣品；

      5.2樣品臺帶有可以固定安裝樣品的裝置；

      5.3 樣品臺帶有旋轉功能，可調節(jié)范圍0-50RPM；

6 鍍膜控制裝置：

      * 6.1 鍍膜操作分手動和自動兩種模式，能預設參數，并能將相關操作進行儲存，方便以后查詢和調用，也可以導到電腦中進行保存。

     6.2鍍膜控制器，可多元化設計的共蒸功能；

     6.3 SQS-310CInficon鍍膜控制軟件；

     6.4通過PLC進行控制。

     6.5主要技術要求：膜厚探測精度0.1?，鍍膜沉積速率控制理論精度0./s，薄膜沉積速率穩(wěn)定性在1%之內，膜厚不均勻性≤ +/-5%；