多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。

根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。

一個旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動切換，不影響真空度。

可以安裝五種不同材料的靶材，每個靶頭可單獨設(shè)置濺射時間功率等參數(shù)，用于生長不同成分的薄膜。

可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。

可選配設(shè)備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。

真空腔體采用304不銹鋼制作

腔體內(nèi)部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (105 L)

鉸鏈?zhǔn)角婚T，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層（圖一）

濺射腔體內(nèi)安裝有電動擋板

濺射距離:濺射距離可調(diào)

濺射角度:濺射角度可調(diào)

實驗時，需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導(dǎo)電銀漿）

可以單獨訂購RF連接線作為備用（圖二）

設(shè)備需要一臺水冷機(jī)，用于靶頭冷卻（圖三）

原理圖請參考（圖四）

直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。

樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜

樣品臺可以加熱，溫度可達(dá)600℃（根據(jù)配置不同可能會有變動，具體請咨詢銷售部）

安裝有KF40真空接口

真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請點擊）

可在本公司選購各種真空泵

設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶

設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

所要求靶材尺寸：直徑為25mm,厚度3mm

可在本公司選購各種靶材

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

60Kg（不包括泵)

CE認(rèn)證

一年保修，終身技術(shù)支持。

特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

 點擊查看售后服務(wù)承諾書。

此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細(xì)溝通

為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）

在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈

要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面

超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。

等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。

制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機(jī)體。

氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。

濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶