- TL1200-PECVD系統(tǒng) -

TL1200-PECVD系統(tǒng)，由TL1200真空管式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)組成。

主要特點(diǎn)：

1、通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。                

2、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低

3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小

4、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。

5、廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。

這款TL1200-PECVD系統(tǒng)以瑞典Canthal電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫儀表，過零觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端能不銹鋼法蘭密封，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表，抽真空時(shí)真空度能夠達(dá)到10^-3Pa，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能、等優(yōu)點(diǎn)。  

一、開蓋保護(hù)系統(tǒng)：該爐安裝有行程開關(guān)，當(dāng)爐蓋打開時(shí)會(huì)自動(dòng)切斷電源，有效地保證使用者。

二、   密封系統(tǒng)：該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復(fù)撤卸，氣密性好、可保證12小時(shí)壓力表指針不偏轉(zhuǎn)。

三、真空系統(tǒng)：能夠抽到10^-1Pa真空泵和能夠抽到10^-3 Pa的分子泵供客戶選擇。

四、爐膛材料：采用日本進(jìn)口爐膛材料，不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡，抗熱漲冷縮能力強(qiáng)。

五、加熱元件：采用電阻絲使用使用長，溫場均衡。

六、漏電保護(hù)功能：該爐裝了漏電空氣開關(guān)，當(dāng)爐體漏電時(shí)自動(dòng)斷電。

七、供氣系統(tǒng)：該系統(tǒng)配有質(zhì)子流量計(jì)，客戶可通過質(zhì)子流量計(jì)控制氣體的流速（具體路數(shù)和流量客戶可以自行選擇）。

　　八、法蘭：采用雙環(huán)密封技術(shù)，有效的提高了法蘭的氣密性，法蘭上裝有多種接頭，可接電阻真空計(jì)、KF25波紋管并能做成容易撤卸的鉸鏈?zhǔn)健?/span>

各種規(guī)格尺寸：