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氧化鋁漿料研磨分散機(jī),金屬氧化物高速剪切研磨分散機(jī),納米膠體磨

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產(chǎn)品型號(hào)CMSD2000

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所  在  地上海市

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氧化鋯經(jīng)常分散中水或者溶劑中,形成漿料,用于制金屬鋯和鋯化合物、制耐火磚、高頻陶瓷、研磨材料、陶瓷顏料和鋯酸鹽等主要用于壓電陶瓷制品、耐火材料及貴重金屬熔煉用的鋯磚、鋯管、坩堝等。也用于生產(chǎn)鋼及有色金屬、和二氧化鋯纖維。還用于陶瓷顏料、靜電涂料及烤漆。用于環(huán)氧樹脂中可增加耐熱鹽水的腐蝕。
     研磨分散機(jī).jpg              

對(duì)于氧化鋯的分散,主要的問題是解決團(tuán)聚問題,特點(diǎn)對(duì)于納米級(jí)的金屬氧化物的分散,zui重要的一點(diǎn)就是解決團(tuán)聚問題。上海依肯研發(fā)的研磨分散機(jī),專業(yè)解決物料團(tuán)聚的問題,創(chuàng)新色設(shè)計(jì),將原先的高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī)進(jìn)行合并,結(jié)合一體的多功能設(shè)備。

IKN研磨分散機(jī),對(duì)于氧化鋯以及其他金屬氧化物的分散有著巨大的突破,傳統(tǒng)的生產(chǎn)設(shè)備為砂磨機(jī),砂磨機(jī)更直接的是對(duì)物料進(jìn)行研磨,可以將物料充分細(xì)化,但是細(xì)化之后帶來(lái)的團(tuán)聚問題無(wú)法解決,因?yàn)樯澳C(jī)不帶有分散的功能。而如果采用IKN研磨分散機(jī)的話,就可以一步到位的解決這些問題,膠體磨模塊可以解決物料研磨細(xì)化的問題,而分散機(jī)分散盤又可以瞬間對(duì)物料進(jìn)行分散,解決團(tuán)聚問題。
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IKN研磨式分散機(jī)是由膠體磨體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。此款設(shè)備zui高轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是剪切設(shè)備內(nèi)的*,并且配有機(jī)封冷卻系統(tǒng),在保證冷卻水的情況下可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn),德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,可以承受超高轉(zhuǎn)速,設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

 乳化頭.jpg            


第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。


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