產(chǎn)品介紹INTRODUCTION

作為一款缺陷形貌分析的精密測量儀器，其主要目的是對樣品進行缺陷檢測。

而儀器所提供的數(shù)據(jù)不能允許任何錯誤的存在。Park NX20，這款 精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數(shù)據(jù)準確性，在半導體和超平樣品行業(yè)中大受贊揚。

大全面的分析功能

ParkNX20具備無二的功能，可快速幫助客戶找到產(chǎn)品失效的原因，并幫助客戶制定出更多具有創(chuàng)意的解決方案。

的精密度為您帶來高分辨率數(shù)據(jù)，讓您能夠更加專注于工作。與此同時,真正非接觸掃描模式讓探針更耐用， 無需為頻繁更換探針而耗費大量的時間和金錢。

即便是次接觸原子顯微鏡的工程師也易于操作

ParkNX20擁有業(yè)界便捷的設計和自動界面，讓您在使用時無需花費大量的時間和精力，也不用為此而時時不停的指導初學者。

借助這一系列特點，您可以更加專注于解決更為重大的問題，并為客戶提供及時且富有洞察力的失效分析報告。

特點FEATURES

為FA和研究實驗室提供精確的形貌測量解決方案

• 缺陷檢查成像和分析。
• 高分辨率電子掃描模式。
• 對樣品和基片進行表面粗糙度測量
• 樣品側壁三維結構測量

低噪聲Z探測器可精確測量AFM表面形貌

• 非接觸模式,降低針尖磨損，減少換探針時間
• 非接觸模式下的快速缺陷成像
• 的三維結構測量的解耦XY掃描系統(tǒng)
• 通過使用熱匹配的組件，盡量減少系統(tǒng)漂移和遲滯現(xiàn)象

低噪聲Z探測器可精確測量AFM表面形貌

• 業(yè)界的低噪聲Z檢測器測量樣品表面形貌
• 沒有過沿過沖和壓電蠕變誤差的真正樣品表面形貌
• 即便是高速掃描也可以保持精確的表面高度
• 行業(yè)的前向和后向掃描間隙橫向飄移小于0.15%

用真正的非接觸掃描方式節(jié)省成本

• 在一般用途和缺陷成像中，具有普通掃描模式10倍或更長的針尖使用壽命
• 減少針尖的磨損
• 最真實的再現(xiàn)樣品微觀三維形貌，減少樣品在掃描過程中的損壞或變形