詳細介紹
JJF1338-2012相控陣超聲探傷儀校準(zhǔn)規(guī)范
貨號AUBAT-1338X
本規(guī)范規(guī)定了具有 B 型顯示功能的相控陣超聲探傷儀的計量特性、校準(zhǔn)條件和校準(zhǔn)方法。適用于相控陣超聲探傷儀 B 型顯示模式下的計量特性的校準(zhǔn)。相控陣超聲探傷儀一般由主機和探頭 組成。探頭一般是由若干壓電陣元組成的陣列。相控陣超聲探傷儀通過主機獨立控制探頭中的各個陣元,實現(xiàn)探頭聲束的相控發(fā)射與接收,在介質(zhì)指定空間區(qū)域內(nèi)實現(xiàn)超聲波的偏轉(zhuǎn)和聚焦。常用探頭分為直探頭與斜探頭,此外還有與探頭配套使用的各種楔塊等。
計量特性
1扇掃成像橫向分辨力
扇掃成像橫向分辨力一般不大于 2 mm。
2扇掃成像縱向分辨力
扇掃成像縱向分辨力一般不大于 2 mm。
3短缺陷分辨力
短缺陷分辨力一般不大于 5 mm。
4成像橫向幾何尺寸測量誤差
人工缺陷成像的橫向幾何尺寸測量誤差一般不超過士5%。成像5縱向幾何尺寸測量誤差
人工缺陷成像的縱向幾何尺寸測量誤差一般不超過士5%。扇掃6角度范圍測量誤差
通過對人工缺陷的扇形掃查成像,確定掃查角度范圍,測量誤差一般不超過士3°
7扇掃角度分辨力
角度分辨力一般不大于 2.5°。
專用試塊的技術(shù)要求
本規(guī)范實驗所采用試塊的材料是 45# 鋼,其聲速為 5920 m/s,表面粗糙度小于1.6 μm。所有的人工缺陷中除了 A-3 區(qū)中是規(guī)則的圓形盲孔外,其余人工缺陷均為規(guī)則的圓形通孔,試塊的幾何尺寸與人工缺陷的位置及幾何尺寸,試塊的材料為金屬,表面應(yīng)足夠平整。材料沒有明確的限制,只要確切知道試塊材料的聲速、保證試塊中人工缺陷的加工精度即可。
扇掃成像縱向分辨力
將探頭放置在試塊 A 中 A-2 區(qū)一系列通孔的上端面,在探頭與試塊表面之間涂敷合適的耦合劑,并施加一定的壓力確保良好耦合,調(diào)節(jié)設(shè)備實現(xiàn)扇形掃查,確保 A-2區(qū)中的同一組人工缺陷都在顯示區(qū)域中。成像中所能分開的*小間距即為該工作狀態(tài)下的成像縱向分辨力。
成像橫向幾何尺寸測量誤差
將探頭放置在試塊 B中 B-1 區(qū)一系列通孔的左端面及 B-2 區(qū)一系列通孔的下端面在探頭與試塊表面之間涂敷合適的耦合劑,并施加一定的壓力確保良好的耦合,調(diào)節(jié)設(shè)備實現(xiàn)線性掃查或扇形掃查得到清晰圖像
成像縱向幾何尺寸測量誤差
將探頭放置在試塊 B 中 B-1 區(qū)一系列通孔的下端面,在探頭與試塊表面之間涂敷合適的耦合劑,并施加一定的壓力確保良好耦合,調(diào)節(jié)設(shè)備實現(xiàn)線性掃查或扇形掃查得到清晰圖像。
貨號AUBAT-1338X
A型 曲面專用試塊
B型 矩形專用試塊
本規(guī)范規(guī)定了具有 B 型顯示功能的相控陣超聲探傷儀的計量特性、校準(zhǔn)條件和校準(zhǔn)方法。適用于相控陣超聲探傷儀 B 型顯示模式下的計量特性的校準(zhǔn)。相控陣超聲探傷儀一般由主機和探頭 組成。探頭一般是由若干壓電陣元組成的陣列。相控陣超聲探傷儀通過主機獨立控制探頭中的各個陣元,實現(xiàn)探頭聲束的相控發(fā)射與接收,在介質(zhì)指定空間區(qū)域內(nèi)實現(xiàn)超聲波的偏轉(zhuǎn)和聚焦。常用探頭分為直探頭與斜探頭,此外還有與探頭配套使用的各種楔塊等。
計量特性
1扇掃成像橫向分辨力
扇掃成像橫向分辨力一般不大于 2 mm。
2扇掃成像縱向分辨力
扇掃成像縱向分辨力一般不大于 2 mm。
3短缺陷分辨力
短缺陷分辨力一般不大于 5 mm。
4成像橫向幾何尺寸測量誤差
人工缺陷成像的橫向幾何尺寸測量誤差一般不超過士5%。成像5縱向幾何尺寸測量誤差
人工缺陷成像的縱向幾何尺寸測量誤差一般不超過士5%。扇掃6角度范圍測量誤差
通過對人工缺陷的扇形掃查成像,確定掃查角度范圍,測量誤差一般不超過士3°
7扇掃角度分辨力
角度分辨力一般不大于 2.5°。
專用試塊的技術(shù)要求
本規(guī)范實驗所采用試塊的材料是 45# 鋼,其聲速為 5920 m/s,表面粗糙度小于1.6 μm。所有的人工缺陷中除了 A-3 區(qū)中是規(guī)則的圓形盲孔外,其余人工缺陷均為規(guī)則的圓形通孔,試塊的幾何尺寸與人工缺陷的位置及幾何尺寸,試塊的材料為金屬,表面應(yīng)足夠平整。材料沒有明確的限制,只要確切知道試塊材料的聲速、保證試塊中人工缺陷的加工精度即可。
扇掃成像橫向分辨力
將探頭放置在試塊 A 中 A-1 區(qū)一系列運孔的下端面,在探頭與試塊表面之間涂敷合適的耦合劑,并施加一定的壓力確保良好耦合,調(diào)節(jié)設(shè)備實現(xiàn)扇形掃查,確保 A-1區(qū)中的人工缺陷都在顯示區(qū)域中。成像中所能分開的*小間距即為該工作狀態(tài)下的成像橫向分辨力。扇掃成像縱向分辨力
將探頭放置在試塊 A 中 A-2 區(qū)一系列通孔的上端面,在探頭與試塊表面之間涂敷合適的耦合劑,并施加一定的壓力確保良好耦合,調(diào)節(jié)設(shè)備實現(xiàn)扇形掃查,確保 A-2區(qū)中的同一組人工缺陷都在顯示區(qū)域中。成像中所能分開的*小間距即為該工作狀態(tài)下的成像縱向分辨力。
成像橫向幾何尺寸測量誤差
將探頭放置在試塊 B中 B-1 區(qū)一系列通孔的左端面及 B-2 區(qū)一系列通孔的下端面在探頭與試塊表面之間涂敷合適的耦合劑,并施加一定的壓力確保良好的耦合,調(diào)節(jié)設(shè)備實現(xiàn)線性掃查或扇形掃查得到清晰圖像
成像縱向幾何尺寸測量誤差
將探頭放置在試塊 B 中 B-1 區(qū)一系列通孔的下端面,在探頭與試塊表面之間涂敷合適的耦合劑,并施加一定的壓力確保良好耦合,調(diào)節(jié)設(shè)備實現(xiàn)線性掃查或扇形掃查得到清晰圖像。
在圖像上,依次選擇不同孔圖像的中心并進行縱向間距測量,讀取不同孔圖像之間的縱向距離測量值。由試塊上該兩孔之間的標(biāo)稱值減去測量值,即為設(shè)備對該兩個孔縱向幾何尺寸測量的誤差。
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