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產(chǎn)品簡介

JJF1613-2017掠入射X射線反射膜厚測量儀器校準(zhǔn)規(guī)范校準(zhǔn)裝置貨號AUBAT-1613L膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)選取3個不同厚度的膜厚國家有證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，厚度尺寸覆蓋70%的測量范圍，并盡可能均勻分布;200nm以下膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的擴(kuò)展不確定度不大于3%(k=2)

詳細(xì)介紹

JJF1613-2017掠入射X射線反射膜厚測量儀器校準(zhǔn)規(guī)范

校準(zhǔn)裝置貨號AUBAT-1613L

膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
選取 3 個不同厚度的膜厚國家有證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，厚度尺寸覆蓋 70%的測量范圍，并盡可能均勻分布; 200 nm 以下膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的擴(kuò)展不確定度不大于3% (k=2)。

掠入射 X 射線反射膜厚測量儀器一般由準(zhǔn)直的入射 X 射線光源、樣品臺、探測系統(tǒng)等部分組成。其工作原理為:當(dāng)X射線以很小的角度入射到樣品表面時會發(fā)生界面反射，經(jīng)膜層后反射強(qiáng)度會發(fā)生變化，得到反射強(qiáng)度和反射角的關(guān)系，通過數(shù)據(jù)處理可得到膜層厚度。

計量特性
1 儀器 2θ 角示值誤差及重復(fù)性
儀器 2θ 角示值誤差應(yīng)在±0.02以內(nèi);重復(fù)性以標(biāo)準(zhǔn)偏差表示，應(yīng)不超過 0.002°
2膜厚測量示值誤差
儀器膜厚測量示值相對誤差應(yīng)不超過±6 %。
3膜厚測量重復(fù)性
儀器膜厚測量重復(fù)性應(yīng)不超過 1%。

儀器膜厚測量示值誤差的不確定度評定示例
1 測量方法
儀器膜厚測量示值誤差是用薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進(jìn)行校準(zhǔn)的。設(shè)定好相關(guān)的測量程序和條件，并按要求進(jìn)行必要的儀器預(yù)校準(zhǔn)后，選擇符合要求的具有明確材料和厚度的膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，測量認(rèn)定值為 t的膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，儀器的測量示值t 與膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的認(rèn)定值t,進(jìn)行比較，計算儀器的示值誤差 t 。本例中，分別以標(biāo)稱厚度為 10 nm、20 nm、50 nm、100 nm 的二氧化硅薄膜為例進(jìn)行分析。

2 膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)引入的不確定度分量 u2
膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)引入的不確定度主要來源于膜厚標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的厚度測量結(jié)果不確定度可根據(jù)相關(guān)技術(shù)資料或校準(zhǔn)證書給出的擴(kuò)展不確定度來計算。
標(biāo)稱厚度為 10 nm 的膜厚標(biāo)物，U(t)= 0.30 nm,k =2，則u2=U(t) /k =0. 15 nm
標(biāo)稱厚度為 20 nm 的膜厚標(biāo)物，U(t) = 0.36 nm,k =2，則 u2=U(t) /k=0.18 nm
標(biāo)稱厚度為 50 nm 的膜厚標(biāo)物，U(t) =0.50 nm,k =2，則u2=U(t) /k=0. 25 nm
標(biāo)稱厚度為 100 nm 的膜厚標(biāo)物，U(t)=].70 nm,k=2，則u2=U(t) /k=0.85 nm