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詳細介紹
廣東真空鍍膜設(shè)備產(chǎn)品詳細介紹：
用途:ZZEL-型高真空電容卷繞式鍍膜設(shè)備是專門用于在電容器薄膜卷材表面真空蒸鍍金屬鋁和鋅膜的專用設(shè)備。本設(shè)備還可以用于生產(chǎn)各種食品的金屬化包裝材料、表面裝潢材料、包裝材料、電化鋁材料、各種標識、標簽、瓶貼及商標，另外還可生產(chǎn)各種反射材料、保溫材料等。
設(shè)備特點：
(1)本設(shè)備配備有一套快速可靠的組合式高真空抽氣系統(tǒng)，具有抽氣速度快、排氣量大、真空度高的優(yōu)良性能。卷繞系統(tǒng)和真空系統(tǒng)的操作采用人機界面和PLC自動控制。
(2)本設(shè)備在基體材料鍍復主輥的驅(qū)動裝置中采用的是直流控制系統(tǒng)，并配以高分辨編碼器，以確保卷繞過程中實現(xiàn)卷膜速度的穩(wěn)定及消除電網(wǎng)電壓波動及負載的變化的影響。
(3)本設(shè)備在基體材料的收卷、放卷卷繞都采用直流電機直接轉(zhuǎn)矩控制來實現(xiàn)基體材料的卷繞操作，對薄料、窄料及延伸性材料也具有較好的適應性。在收卷側(cè)設(shè)有獨立電機驅(qū)動的輔助張力牽引輥，確保卷繞張力控制達到較高的精度。
(4)本設(shè)備在基體材料卷繞系統(tǒng)的收卷和放卷部位均配備了可以在機外直接實現(xiàn)轉(zhuǎn)角控制的分段展平輥，在進行真空卷繞鍍膜過程中可根據(jù)實際所需要的展平效果實施即時調(diào)控。
(5)設(shè)備配備了大功率導電氮化硼坩堝的金屬鋁鍍膜裝置。高密集的坩堝 裝置確保了能夠在高速度運行中的基體材料表面蒸鍍足夠厚度的高均勻性金屬鋁膜。在蒸發(fā)坩堝的加熱控制系統(tǒng)中采用了大功率可控硅單元以確保蒸發(fā)效果的穩(wěn)定可靠。
(6)設(shè)備配置鍍鋅專用的蒸發(fā)裝置，蒸發(fā)量可以根據(jù)需要在機外隨時調(diào)整。鋅蒸發(fā)裝置結(jié)構(gòu)*，蒸發(fā)均勻。
(7)本鍍膜設(shè)備配有真空鍍膜專用低溫冷凍/加熱回溫裝置，該裝置用于在真空鍍膜操作時將鍍復主輥表面冷凍至-15℃以下，用以冷卻被鍍的基體材料。該系統(tǒng)在鍍膜工作結(jié)束后在將鍍復主輥加熱升溫至室溫。
(8)本鍍膜設(shè)備在真空工作室備有冷井，配置有低溫泵系統(tǒng)，提高和穩(wěn)定工作空間的抽速。
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