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硅片熱臺(tái) RT400XRD 詳細(xì)摘要: 硅片熱臺(tái) RT400XRD
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海 更新時(shí)間:2022-07-08 參考價(jià): 面議 在線留言 -
黑體熱臺(tái) RT1400HT 詳細(xì)摘要: 黑體熱臺(tái) RT1400HT
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海 更新時(shí)間:2022-07-08 參考價(jià): 面議 在線留言 -
高壓高溫催化熱臺(tái) 詳細(xì)摘要: 本熱臺(tái)能對(duì)試樣進(jìn)行單純的加熱試驗(yàn),還可對(duì)試樣進(jìn)行氣氛環(huán)境下的催化反應(yīng)加熱試驗(yàn)。
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大區(qū)域熱臺(tái) RT450/DQ 詳細(xì)摘要: 加熱區(qū)域比較大
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雙層加熱高溫?zé)崤_(tái) RT1000-16/S 詳細(xì)摘要: 熱臺(tái)上下加溫,更適宜大且厚的試樣。
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雙層加熱臺(tái) RT500/S 詳細(xì)摘要: 樣品上下加熱,更適宜大且厚的試樣。
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帶側(cè)力高溫?zé)崤_(tái) RT1000-YL 詳細(xì)摘要: 帶側(cè)力高溫?zé)崤_(tái) RT1000-YL
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立式毛細(xì)管高溫?zé)崤_(tái) RT1200L-MX 詳細(xì)摘要: 適用于對(duì)樣品分辨率達(dá)納米級(jí)的同步幅射測(cè)量、原位檢測(cè)。
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立式高溫?zé)崤_(tái) RT1300/L 詳細(xì)摘要: 適用于對(duì)樣品分辨率達(dá)納米級(jí)的同步幅射測(cè)量、原位檢測(cè)。
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敞開式熱臺(tái) RT350/K 詳細(xì)摘要: 適用于受熱不氧化等反應(yīng)的試樣,經(jīng)濟(jì)實(shí)惠,操作方便。
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中溫?zé)崤_(tái) RT600 詳細(xì)摘要: 中溫?zé)崤_(tái) RT600
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高溫?zé)崤_(tái) RT1500、RT1400、RT1200、RT1000、RT800 詳細(xì)摘要: 供眾多學(xué)科領(lǐng)域,從事研究、分析、和觀察使用。
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