詳細(xì)介紹
超純水(UPW)制造設(shè)備
市場(chǎng)中反滲透(膜分離)技術(shù)的應(yīng)用可以使超純水制備由傳統(tǒng)的陽(yáng)離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器等結(jié)合近年來(lái)開(kāi)始在國(guó)外推廣應(yīng)用的EDI(電去離子)技術(shù)都是屬于超純水制造技術(shù)的一次變革,從此我國(guó)環(huán)保設(shè)備進(jìn)入了一個(gè)需再生化學(xué)品就可以能生產(chǎn)出高達(dá)18MΩ·CM的超純水,通常適用于半導(dǎo)體、集成電路等行業(yè)。國(guó)家經(jīng)委也已將RO + EDI 成套技術(shù)的應(yīng)用列入國(guó)家重點(diǎn)推廣范圍。滲透和EDI成套技術(shù)的開(kāi)發(fā)和應(yīng)用是我公司的專(zhuān)業(yè)方向和特長(zhǎng)。
公司采用的現(xiàn)代超純水制造典型工藝流程為:
1: 預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點(diǎn)
2: 預(yù)處理-一級(jí)反滲透-二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)
3: 預(yù)處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)
4: 預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn),電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))

反滲透法分離過(guò)程有如下優(yōu)點(diǎn):
1、裝置需加熱、沒(méi)有相變,處理效率高且速度快。
2、超純水設(shè)備產(chǎn)生的能耗少,運(yùn)程工作連續(xù)而穩(wěn)定;
3、超純水設(shè)備體積小、操作簡(jiǎn)單,適應(yīng)性強(qiáng);
4、超純水設(shè)備對(duì)環(huán)境不產(chǎn)生污染,環(huán)保性高。
5、設(shè)備抗壓強(qiáng)度大、耐寒、耐熱、耐老化、耐腐蝕,同時(shí)它還具有穩(wěn)固、美觀。
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