干燥設(shè)備 粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 過濾分離設(shè)備 過濾材料 滅菌設(shè)備 萃取設(shè)備 貯存設(shè)備 傳熱設(shè)備 鍋爐 塔設(shè)備 結(jié)晶設(shè)備 其它制藥設(shè)備
無錫展霖環(huán)境科技有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)0
所 在 地無錫市
聯(lián)系方式:孫查看聯(lián)系方式
更新時間:2026-10-07 07:48:10瀏覽次數(shù):次
聯(lián)系我時,請告知來自 制藥網(wǎng)暫無信息 |
一、HMDS 烘箱的預(yù)處理系統(tǒng)應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是至關(guān)重要的一個工藝環(huán)節(jié),而涂膠工藝的好壞,直接影響到光 刻的質(zhì)量,所以涂膠也顯得尤為必要,尤其在所刻
一、HMDS 烘箱的預(yù)處理系統(tǒng)應(yīng)用
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是至關(guān)重要的一個工藝環(huán)節(jié),而涂膠工藝的好壞,直接影響到光 刻的質(zhì)量,所以涂膠也顯得尤為必要,尤其在所刻線條比較細(xì)的時候,任何一個環(huán)節(jié)有一點(diǎn) 紕漏,都可能導(dǎo)致光刻的失敗。在涂膠工藝中,所用到的光刻膠絕大多數(shù)是疏水的,而晶片 表面的羥基和殘留的水分子是親水的,如果在晶片表面直接涂膠的話,勢必會造成光刻膠和 晶片的粘合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,涂膠厚度和均勻性都受到了影響,從而影 響了光刻效果和顯影。為了解決這一問題,涂膠工藝中引入了一種化學(xué)制劑,即 HMDS,它 的英文全名叫 Hexamethyldisilazane(HMDS),化學(xué)名稱叫六甲基二硅氮甲烷,把它涂到硅 片表面后,通過加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主題的化合物,這實(shí)際上是一種表面活性劑,它 成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起到耦合的作用,再 者,在顯影的過程中,由于它增強(qiáng)了光刻膠與基底的粘附力,從而有效地抑制刻蝕液進(jìn)入掩 模與基底的側(cè)向刻蝕。 最初,人們用液態(tài)的 HMDS 直接涂到晶片上,然后借著晶片的高速旋 轉(zhuǎn)在晶片表面形成一層 HMDS 膜。這樣就階段性的解決了基片和光刻膠之間的結(jié)合問題,但 隨著光刻線條的越來越細(xì),膠的越來越薄,對粘附力提出了更高的要求,于是我們研制出了 現(xiàn)在的 HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)。
二、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的原理:
HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱 HMDS 預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參 數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層 HMDS,降低了 HMDS 處理后的硅片接觸角,降低了光 刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
三、 HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的性能
(1)預(yù)處理性能更好,是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的 HMDS 處理,所以不會有塵埃的干 擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和 HMDS 處理放在同一道工藝,同一個容器中進(jìn)行, 晶片在容器里先經(jīng)過 100℃-200℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行 HMDS 處理,不需要從容器里傳 出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會大大降低,所以有著更好的處理效果。
(2)處理更加均勻。 由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬 更好的均勻性。
(3)效率高。液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)多盒的晶片。
(4)更加節(jié)省藥液。實(shí)踐證明,用液態(tài) HMDS 涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理多盒晶片 所用藥液還多;
(5)更加環(huán)保和安全,HMDS 是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸 部、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽, 也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會對環(huán)境造成污染。
四、系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
整個系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等 5 部分組成。
七、HMDS 烘箱技術(shù)參數(shù)
規(guī)格型號 | PVD-090-HMDS | PVD-210-HMDS |
容積(L) | 90L | 210L |
控溫范圍 | RT+10~250℃ | |
溫度分辨率 | 0.1℃ | |
控溫精度 | ±0.5℃ | |
加熱方式 | 內(nèi)腔體外側(cè)加溫 | |
隔板數(shù)量 | 2PCS | 3PCS |
真空度 | <133Pa(真空度范圍 100~100000pa) | |
真空泵 | 抽氣速度 4 升/秒,型號 DM4 | |
電源/功率 | AC220/50Hz,3KW | AC380V/50Hz,4KW |
內(nèi)膽尺寸(W*D*H)mm | 450×450×450 | 560×640×600 |
外形尺寸(老款)mm | 800×630×850 | 920×830×1050 |
外形尺寸(新款)mm | 980×655×1600 | 1220×930×1755 |
連接管:316L 不銹鋼波紋管(KF25)和卡箍,將真空泵與真空箱無縫連接。
備注 1:真空泵可根據(jù)場地需要使用干泵可選愛德華或安捷倫(選購)
備注 2:外殼優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板粉末靜電噴涂,內(nèi)膽采用 316L 不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*H)mm: 980x655x1600(含下箱柜高 700),下箱柜空置。
其它選配件:
1.波紋管 2 米或 3 米
2.富士溫控儀表(溫度與 PLC 聯(lián)動)
3.三色燈
4. 增加 HMDS 藥液瓶
5.HMDS 管路加熱功能
6.開門報(bào)警
7.壓力溫度記錄儀
8.干式渦旋泵(推薦):愛德華(Nxds10i或 15i)、安捷倫(TriScroll300或600)、譚式(SPL15)、 鮑斯(GVD8)
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
商 鋪:無錫展霖環(huán)境科技有限公司 http://www.jjhengye.com/st104038/
主營產(chǎn)品:真空干燥箱,高低溫試驗(yàn)箱,鼓風(fēng)烘箱,培養(yǎng)箱,高低溫冷熱一體機(jī)
制藥網(wǎng) 設(shè)計(jì)制作,未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗(yàn)證碼
請輸入你感興趣的產(chǎn)品
請簡單描述您的需求
號碼可能有誤,請核對!
請選擇省份
聯(lián)系方式
無錫展霖環(huán)境科技有限公司
安吉县|
双江|
嘉鱼县|
遵化市|
玉环县|
渝北区|
汤原县|
灯塔市|
潍坊市|
靖安县|
临澧县|
浦城县|
永州市|
陆丰市|
安陆市|
平潭县|
丹巴县|
嘉定区|
太白县|
灌阳县|
土默特右旗|
塘沽区|
旺苍县|
东港市|
沙洋县|
天柱县|
青河县|
新民市|
大洼县|
宁都县|
兰考县|
峡江县|
惠水县|
青海省|
黄陵县|
疏勒县|
富民县|
林口县|
阿鲁科尔沁旗|
达州市|
彭州市|
