當前位置：上海梓夢科技有限公司>>粒度分析設(shè)備>>晶體出現(xiàn)率分析儀>> ZMP960晶體出現(xiàn)率分析儀
| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
|---|---|---|---|
| 自動化程度 | 全自動 |
ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機輸出。
晶體出現(xiàn)率分析儀具有超大測量范圍及高分辨率，同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點。能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色 的新型顆粒分析儀器。
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