1 、濺射真空室:真空室為圓筒形前開門結構，尺寸Ф450mmx400mm，全不銹鋼結構?？蓛群婵镜?00～150℃，選用不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行電化學拋光鈍化處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封；手動前開門結構；靶安裝在下蓋板，基片轉臺在上法蘭；

2 、磁控濺射系統(tǒng):永磁靶（其中一個可濺射磁性材料)，射頻濺射與直流濺射兼容，靶內水冷；氣動控制擋板組件，各靶可獨立/順次/共同工作； 500W直流電源1臺； 500W全自動調諧射頻電源2臺， -200V直流偏壓電源1臺

3 、旋轉轉基片臺 :基片通過進口加熱絲加熱方式，加熱溫度：室溫—800°C，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，可控可調；基片自轉由調速電機驅動，0—20轉/分連續(xù)可調，樣品擋板組件 1套