HiClave™和Pilo Clave^TM高壓反應釜系統(tǒng)

德國HITEC ZANG的HiClave™和Pilo Clave^TM高壓反應裝置，適合于各種高壓反應體系，既可以作為單一高壓反應系統(tǒng)、也可以作為平行高壓反應系統(tǒng)。廣泛應用于石油化工、化學、制藥、高分子、冶金、環(huán)保等化工過程領(lǐng)域。如催化加氫、聚合反應、氫化反應、氧化反應、碳化反應、濕法冶金、酯化反應、超臨界反應、電化學腐蝕測試、紅外探測等等。HiClave™高壓反應釜系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計。可以根據(jù)需求選擇Hitec Zang的各種模塊化的自動化組件。這些組件可以被裝配及調(diào)節(jié)適合于特殊的需求，并可在未來進行組件增加或升級。HiClave™的主要特點包括：

■ 純金屬壓力帽密封，保障系統(tǒng)達到密封狀態(tài)

■壓力范圍：真空~350bar，也可以選擇室溫~耐壓400bar

■反應溫度范圍：-10~350℃，也可以選擇-60~400℃

■可以選配不同的加熱制冷系統(tǒng)

■可以選配不同規(guī)格的磁力攪拌器或磁封的頂置式機械攪拌機

■可以選配高精度的氣體、液體進樣控制系統(tǒng)；最多可以連接7種介質(zhì)

■反應釜材質(zhì)：特殊玻璃、SS 1.4571不銹鋼、C22哈氏合金、C276哈氏合金、C4哈氏合金、SS 316鈦、鎳合金、鋯、碳鋼、莫耐爾合金等

■反應釜體積：10mL、20 mL、50mL、100mL、150mL、200mL、250mL、500mL~20L

■攪拌速度：40~1000rpm（或2000rpm、或3000rpm）

■扭矩：20 Ncm、50Ncm、60Ncm、140Ncm、200Ncm、210Ncm或其他

Pilo Clave^TM高壓反應裝置適用于體積更大的高壓反應。反應釜體積：0.5~128L；壓力范圍：真空~150bar。

HiClave™和Pilo ClaveTM高壓反應釜系統(tǒng)是被證明了高壓反應解決方案，尤其是對于多項反應系統(tǒng)。對于100ml或更大體積的高壓反應釜，在反應釜外壁及頂部法蘭可以開口，用于連接更多的外部傳感器設(shè)備，包括各種加熱/冷卻系統(tǒng)、磁力攪拌或磁耦合頂部攪拌以及各種氣體液體供應系統(tǒng)。高壓反應釜可以為單一系統(tǒng)，也可謂平行反應釜系統(tǒng)。除了標準配置外，還可定制各種配置的高壓反應釜系統(tǒng)已滿足各種特殊需求。