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  • 晶圓HMDS 涂膠烤箱
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品牌

廠商性質(zhì)

型號(hào)

訪問次數(shù)

4

產(chǎn)地

江蘇無錫市

更新時(shí)間

2026/10/7 7:48:10

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一、HMDS 烘箱的預(yù)處理系統(tǒng)應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是至關(guān)重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),而涂膠工藝的好壞,直接影響到光 刻的質(zhì)量,所以涂膠也顯得尤為必要,尤其在所刻

晶圓HMDS 涂膠烤箱詳細(xì)信息

一、HMDS 烘箱的預(yù)處理系統(tǒng)應(yīng)用

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是至關(guān)重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),而涂膠工藝的好壞,直接影響到光 刻的質(zhì)量,所以涂膠也顯得尤為必要,尤其在所刻線條比較細(xì)的時(shí)候,任何一個(gè)環(huán)節(jié)有一點(diǎn) 紕漏,都可能導(dǎo)致光刻的失敗。在涂膠工藝中,所用到的光刻膠絕大多數(shù)是疏水的,而晶片 表面的羥基和殘留的水分子是親水的,如果在晶片表面直接涂膠的話,勢(shì)必會(huì)造成光刻膠和 晶片的粘合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,涂膠厚度和均勻性都受到了影響,從而影 響了光刻效果和顯影。為了解決這一問題,涂膠工藝中引入了一種化學(xué)制劑,即 HMDS,它 的英文全名叫 Hexamethyldisilazane(HMDS),化學(xué)名稱叫六甲基二硅氮甲烷,把它涂到硅 片表面后,通過加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主題的化合物,這實(shí)際上是一種表面活性劑,它 成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起到耦合的作用,再 者,在顯影的過程中,由于它增強(qiáng)了光刻膠與基底的粘附力,從而有效地抑制刻蝕液進(jìn)入掩 模與基底的側(cè)向刻蝕。 最初,人們用液態(tài)的 HMDS 直接涂到晶片上,然后借著晶片的高速旋 轉(zhuǎn)在晶片表面形成一層 HMDS 膜。這樣就階段性的解決了基片和光刻膠之間的結(jié)合問題,但 隨著光刻線條的越來越細(xì),膠的越來越薄,對(duì)粘附力提出了更高的要求,于是我們研制出了 現(xiàn)在的 HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)。

二、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的原理:

HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)通過對(duì)烘箱 HMDS 預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參 數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層 HMDS,降低了 HMDS 處理后的硅片接觸角,降低了光 刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

三、 HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的性能

(1)預(yù)處理性能更好,是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的 HMDS 處理,所以不會(huì)有塵埃的干 擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和 HMDS 處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行, 晶片在容器里先經(jīng)過 100℃-200℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行 HMDS 處理,不需要從容器里傳 出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更好的處理效果。

(2)處理更加均勻。 由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬 更好的均勻性。

(3)效率高。液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)多盒的晶片。

(4)更加節(jié)省藥液。實(shí)踐證明,用液態(tài) HMDS 涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理多盒晶片 所用藥液還多;

(5)更加環(huán)保和安全,HMDS 是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸 部、呼吸道等,由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽, 也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。

四、系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

整個(gè)系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等 5 部分組成。 


七、HMDS 烘箱技術(shù)參數(shù)


規(guī)格型號(hào)

PVD-090-HMDS

PVD-210-HMDS

容積(L)

90L

210L

控溫范圍

RT+10~250℃

溫度分辨率

0.1℃

控溫精度

±0.5℃

加熱方式

內(nèi)腔體外側(cè)加溫

隔板數(shù)量

2PCS

3PCS

真空度

<133Pa(真空度范圍 100~100000pa)

真空泵

抽氣速度 4 升/秒,型號(hào) DM4

電源/功率

AC220/50Hz,3KW

AC380V/50Hz,4KW

內(nèi)膽尺寸(W*D*H)mm

450×450×450

560×640×600

外形尺寸(老款)mm

800×630×850

920×830×1050

外形尺寸(新款)mm

980×655×1600

1220×930×1755


連接管:316L 不銹鋼波紋管(KF25)和卡箍,將真空泵與真空箱無縫連接。

備注 1:真空泵可根據(jù)場(chǎng)地需要使用干泵可選愛德華或安捷倫(選購)

備注 2:外殼優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板粉末靜電噴涂,內(nèi)膽采用 316L 不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*H)mm: 980x655x1600(含下箱柜高 700),下箱柜空置。


其它選配件:

1.波紋管 2 米或 3 米

2.富士溫控儀表(溫度與 PLC 聯(lián)動(dòng))

3.三色燈

4. 增加 HMDS 藥液瓶

5.HMDS 管路加熱功能

6.開門報(bào)警

7.壓力溫度記錄儀

8.干式渦旋泵(推薦):愛德華(Nxds10i或 15i)、安捷倫(TriScroll300或600)、譚式(SPL15)、 鮑斯(GVD8)




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