金山區(qū)4噸/小時(shí)電子廠專用超純水設(shè)備是針對(duì)電子行業(yè)精密生產(chǎn)定制的大流量高純度水處理設(shè)備,額定產(chǎn)水量4000L/h,采用多級(jí)預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+EDI深度除鹽+精密終端凈化電子行業(yè)專屬工藝。設(shè)備專為芯片清洗、PCB線路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體封裝、液晶模組、電子元器件電鍍、精密電子切割冷卻等高精密用水場(chǎng)景設(shè)計(jì),可去除原水中泥沙、膠體、余氯、重金屬、陰陽離子、有機(jī)物、微粒及微量微生物,穩(wěn)定產(chǎn)出高純度超純水,出水電阻率穩(wěn)定≥15MΩ·cm@25℃,有效解決電子生產(chǎn)靜電殘留、板面水印、元件氧化、焊接不良、產(chǎn)品良品率低等行業(yè)痛點(diǎn)。設(shè)備支持24小時(shí)滿負(fù)荷連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行,自動(dòng)化程度高、水質(zhì)抗干擾性強(qiáng)、可長期恒定達(dá)標(biāo),是中大型電子廠區(qū)標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)的核心配套設(shè)備。

一、設(shè)備工作原理
金山區(qū)4噸/小時(shí)電子廠專用超純水設(shè)備采用梯度逐級(jí)凈化+深度離子脫除技術(shù),分層處理、逐級(jí)提純,適配電子行業(yè)超高純度、低顆粒、低電導(dǎo)、低殘留的嚴(yán)苛用水標(biāo)準(zhǔn)。前端多級(jí)預(yù)處理系統(tǒng)通過機(jī)械過濾、活性炭吸附、水質(zhì)軟化,去除原水大顆粒雜質(zhì)、余氯與鈣鎂硬度,端膜元件結(jié)垢、氧化污染,穩(wěn)定進(jìn)水基礎(chǔ)水質(zhì);雙級(jí)反滲透系統(tǒng)完成水體深度預(yù)脫鹽,截留水中99%以上的鹽分、膠體、有機(jī)物、懸浮微粒、細(xì)菌雜質(zhì),大幅降低水體電導(dǎo)率,為EDI系統(tǒng)提供優(yōu)質(zhì)進(jìn)水;核心EDI連續(xù)電除鹽技術(shù)在直流電場(chǎng)作用下深度脫除水中微量殘留陰陽離子、弱電解質(zhì)及微量有機(jī)雜質(zhì),實(shí)現(xiàn)無化學(xué)再生持續(xù)制超純水;末端搭配精密終端過濾與閉式循環(huán)抑菌系統(tǒng),杜絕水體二次污染,全程保障出水高純度、無微粒、無離子殘留,滿足電子精密清洗與生產(chǎn)工藝用水要求。
二、整套工藝流程
設(shè)備采用PLC全自動(dòng)智能閉環(huán)控制,適配4噸大流量連續(xù)制水工況,全程無人值守自動(dòng)運(yùn)行,完整標(biāo)準(zhǔn)化工藝流程:原水→原水增壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→全自動(dòng)軟水器→5μm精密保安過濾→一級(jí)反滲透系統(tǒng)→二級(jí)反滲透系統(tǒng)→EDI超純水系統(tǒng)→無菌純水箱→變頻恒壓供水→0.22μm終端精密過濾→閉式循環(huán)用水點(diǎn)。設(shè)備搭載自動(dòng)沖洗、高低壓聯(lián)鎖、缺水過載保護(hù)、故障報(bào)警、定時(shí)循環(huán)抑菌功能,制水全程水質(zhì)穩(wěn)定、流量均勻,適配電子廠24小時(shí)連續(xù)量產(chǎn)用水工況。
1. 原水增壓單元
市政自來水經(jīng)原水箱緩存穩(wěn)壓,配備大流量靜音不銹鋼增壓泵恒壓輸送水流,為整套水處理系統(tǒng)提供恒定流量與壓力,有效解決4噸大流量制水工況下水流波動(dòng)、水壓不均、進(jìn)水偏流等問題,保障預(yù)處理、反滲透、EDI各單元工況平穩(wěn)運(yùn)行,為連續(xù)穩(wěn)定提純超純水提供基礎(chǔ)工況保障。
2. 多介質(zhì)過濾單元
過濾器裝填石英砂、無煙煤雙層復(fù)合濾料,高效攔截原水中泥沙、鐵銹、懸浮顆粒物、粗大膠體等固態(tài)雜質(zhì),有效降低原水濁度,凈化水體觀感,杜絕大顆粒雜質(zhì)磨損高壓泵、堵塞精密濾芯與反滲透膜流道。設(shè)備配備全自動(dòng)控制閥,可定時(shí)完成正反沖洗流程,及時(shí)沖刷濾層截留污染物,防止濾料板結(jié)、堵塞、菌藻滋生,長效保護(hù)后端精密水處理組件,降低設(shè)備故障率,延長核心耗材使用壽命。
3. 活性炭過濾單元
采用高碘值食品級(jí)椰殼活性炭,專項(xiàng)吸附水中殘余余氯、異色異味、腐殖質(zhì)、有機(jī)污染物及微量漂白殘留物質(zhì)。消除余氯對(duì)反滲透膜、EDI模塊的氧化腐蝕損傷,避免核心耗材老化衰減;同時(shí)有效去除水體有機(jī)雜質(zhì),切斷微生物滋生基底,優(yōu)化進(jìn)水潔凈度,為后端高精度膜分離與電除鹽工藝奠定優(yōu)質(zhì)進(jìn)水基礎(chǔ)。
4. 全自動(dòng)軟化單元
配置大流量全自動(dòng)鈉離子交換軟水器,通過陽離子交換樹脂精準(zhǔn)置換水中鈣、鎂硬度離子,大幅降低原水硬度,從根源杜絕反滲透膜結(jié)垢堵塞、通量衰減、脫鹽率下降等問題。設(shè)備可自動(dòng)完成樹脂再生、沖洗、鹽箱補(bǔ)水全流程,無需人工值守,適配4噸每小時(shí)24小時(shí)連續(xù)滿負(fù)荷制水工況,長期保障整套系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行,避免硬水殘留導(dǎo)致電子生產(chǎn)結(jié)水印、白點(diǎn)瑕疵。
5. 5μm精密保安過濾單元
內(nèi)置高精度PP熔噴濾芯,作為雙級(jí)反滲透系統(tǒng)防護(hù)屏障,精準(zhǔn)攔截前段工藝脫落的濾料粉末、細(xì)微顆粒、膠體雜質(zhì),杜絕硬質(zhì)顆粒劃傷高壓泵、堵塞反滲透膜流道,有效降低膜污染風(fēng)險(xiǎn),保護(hù)反滲透膜與EDI精密模塊,保障大流量制水工況下系統(tǒng)高效、穩(wěn)定運(yùn)行。
6. 雙級(jí)反滲透深度預(yù)脫鹽單元
采用工業(yè)級(jí)抗污染雙級(jí)反滲透系統(tǒng),一級(jí)反滲透初步脫除水中絕大部分無機(jī)鹽、重金屬、懸浮物、膠體、細(xì)菌與大分子有機(jī)物;二級(jí)反滲透進(jìn)一步深度提純,脫除微量殘留鹽分與雜質(zhì),系統(tǒng)綜合脫鹽率≥99.5%,大幅降低水體基礎(chǔ)電導(dǎo)率,為EDI超純水制備提供高純度前置水源。設(shè)備自帶自動(dòng)沖洗程序,啟停、待機(jī)自動(dòng)沖刷膜表面雜質(zhì),延緩膜污染速度,保障大流量制水水質(zhì)穩(wěn)定無波動(dòng)。
7. EDI連續(xù)電除鹽核心單元
EDI模塊為電子級(jí)超純水核心精處理單元,摒棄傳統(tǒng)酸堿再生工藝,綠色環(huán)保、運(yùn)行穩(wěn)定、無化學(xué)殘留。雙級(jí)反滲透產(chǎn)水進(jìn)入EDI模塊后,在直流電場(chǎng)作用下快速脫除水中微量陰陽離子、弱電解質(zhì)、殘余有機(jī)物及極細(xì)懸浮雜質(zhì),持續(xù)穩(wěn)定產(chǎn)出電阻率≥15MΩ·cm的電子級(jí)超高純超純水,滿足電子精密生產(chǎn)、精密清洗、制程配料的高純度用水要求,杜絕離子殘留導(dǎo)致的電子元件氧化、導(dǎo)電不良、產(chǎn)品瑕疵等問題。
8. 終端精密凈化與閉式循環(huán)供水單元
提純后的超純水儲(chǔ)存于封閉式無菌純水箱,配備無菌呼吸閥,隔絕空氣灰塵與微生物二次污染;后端搭載變頻恒壓供水系統(tǒng)+0.22μm終端精密過濾器,深度攔截微量微粒與殘留雜質(zhì),保障出水無顆粒、無殘留、高潔凈。整套管路采用全閉式循環(huán)設(shè)計(jì),無死水滯留、無水質(zhì)衰減,可同時(shí)滿足多工位精密清洗、設(shè)備冷卻、制程配料同步用水,全程維持超純水水質(zhì)恒定。
三、核心運(yùn)行參數(shù)
額定產(chǎn)水量:4000L/h;運(yùn)行方式:24小時(shí)全自動(dòng)連續(xù)運(yùn)行;系統(tǒng)綜合脫鹽率:≥99.5%;出水水質(zhì):電子級(jí)超純水,電阻率≥15MΩ·cm@25℃;進(jìn)水溫度:5–40℃;進(jìn)水濁度:≤1NTU;系統(tǒng)回收率:≥75%;控制方式:PLC全自動(dòng)智能控制,無人值守運(yùn)行。
<span data-lark-record-data="{"isCut":false,"rootId":"J5o4dPbveoHoDSxRXoAcQU7Cn9e","parentId":"J5o4dPbveoHoDSxRXoAcQU7Cn9e","blockIds":[2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20,21,22,23,24],"recordIds":["GhEgfreafdWjnKccJUYcYvcCnFb","WT0ofJG7jd9eIUcNTaKc8IKxnP1","Cpbafh8aHdLka5cfR8pcHpMqn8c","UkTSfBUapdvVDCclJsUcrT9hnIc","Ux7CffzvudYQrScBh7OcY4ccnFg","A3lXfTXVSdPmyZcg5dncEvhxnaf","NJZkfuvShdwPzocDmx0cWdIbnMh","XU0ofVR7Yd8nAoc3KL0cnnBxn8e","YFOsfNNR7dIQmscPq7WcpHZenNe","IMsVfb1YzdKe42cZPf2cSDNYnic","QuBTfqb7TdcHEOcFX6xcgCmCnn4","O2VbfC63pduc4ncyIkdcRJF7nrh","Um5Of4s7TdzoIYcvD4TciIwnnGb","IquofnsAUdX9NWct56ucvvh6nkc","X0YdfEavRdphm1ciX3EcmjMjnDc","LeTHfpTiqdgSCLcXdg0cf3linFd","GEKSfGagxd5Mc8cVJRHcmNHbnyg","IvmKfoPpkdcwJhcdTatca8GknMe","MYEZfMZUmdnucGcpdIrcBmyInNb","MD4dfJnaUdosHSc5Xyjc0S8NnAc","Aam5fLWDqd10uQcLKWaccbpxn6d","IHCgffRvadoENJcsdYQcCX7hndd","Mfi7fv7q4dw516cdZ2fckmlgn1e"],"recordMap":{"GhEgfreafdWjnKccJUYcYvcCnFb":{"id":"GhEgfreafdWjnKccJUYcYvcCnFb","snapshot":{"revisions":[],"author":"7579691373016648648","text":{"initialAttributedTexts":{"text":{"0":"4噸/小時(shí)電子廠專用超純水設(shè)備是針對(duì)電子行業(yè)精密生產(chǎn)定制的大流量高純度水處理設(shè)備,額定產(chǎn)水量4000L/h,采用多級(jí)預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+EDI深度除鹽+精密終端凈化電子行業(yè)專屬工藝。設(shè)備專為芯片清洗、PCB線路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體封裝、液晶模組、電子元器件電鍍、精密電子切割冷卻等高精密用水場(chǎng)景設(shè)計(jì),可<a class=" style="color:red" a="" class="lark-record-clipboard" 1.="" 2.="" 3.="" 4.="" 5.="" 6.="" 7.="" 8.="" data-lark-record-format="docx/record">