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  • 長(zhǎng)電wafer單晶圓清洗機(jī)
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產(chǎn)地

廣東深圳市

更新時(shí)間

2026/7/21 7:46:55

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

CD-6808wafer單片晶圓清洗機(jī),用于攝像頭類產(chǎn)品,如wafer,CMOS, Holder等表面微塵清洗,旋轉(zhuǎn)式噴桿清洗,避免二次污染產(chǎn)品。...

長(zhǎng)電wafer單晶圓清洗機(jī)詳細(xì)信息



機(jī)器簡(jiǎn)介:
cd-6808wafer專業(yè)清洗機(jī),用于攝像頭類產(chǎn)品,如wafer,CMOS, Holder等表面微塵清洗。
機(jī)器特點(diǎn):
1、攝像頭類模組類產(chǎn)品表面粉塵,雜質(zhì)專用清洗機(jī)器;
2、鏡面銹鋼一體化封閉機(jī)身,對(duì)工作環(huán)境無(wú)污染,適合無(wú)塵車間使用要求;
3、可更換清洗盤清洗多種產(chǎn)品,清洗盤按產(chǎn)品定做;
4、PLC自動(dòng)控制,操作方便快捷;
5、透明防爆前門,安全作業(yè),便于觀察;
6、全系統(tǒng)儀表顯示,隨時(shí)監(jiān)控清洗狀況;
7、采用二流體清洗,清洗精度高,對(duì)產(chǎn)品零損傷,純水消耗量極小;
8、旋轉(zhuǎn)式噴桿,避免二次污染產(chǎn)品;
9、配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置,輔助清洗達(dá)到效果;
10、配備2級(jí)空氣過(guò)濾系統(tǒng),壓縮空氣符合ISO8573、1標(biāo)準(zhǔn);
11、機(jī)身緊湊,占用面積小;
12、使用超純水清洗,符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)。


項(xiàng)目 參數(shù)
外觀尺寸 600(L) ×680(W) × 1680(H)mm
治具規(guī)格 12 寸或以下(采用標(biāo)準(zhǔn)或定制化陶瓷吸盤)
清洗精度 清洗 0.5μm 及以上的 Particle 顆粒
清洗方式 二流體清洗+毛刷(可選)
干燥方式 高速離心脫水
標(biāo)準(zhǔn)固定方式 微孔陶瓷吸盤(可根據(jù)產(chǎn)品定制)
純水連接口徑 ø12mm 外徑軟管或 PT 1/2″內(nèi)螺紋
純水供應(yīng) 壓力>0.3Mpa;流量>10L/Min;電阻率>17MΩ
純水消耗量 0-8L/Min,正常工作耗水量<120L/h
排水出口徑 PT 1″內(nèi)螺紋
氣源入口徑 ø10mm 外徑軟管 或 PT1/2″內(nèi)螺紋
氣源供應(yīng) 0.4-0.7Mpa;過(guò)濾精度:0.01μm;含油量:無(wú)油;含水量:壓力露點(diǎn)-40℃
氣體消耗量 10-40L/Min
排風(fēng)口口徑 4″(直徑 115)×2(抽風(fēng)風(fēng)速大于 3M/Sec)
排風(fēng)量 400-700m³/H
電源供應(yīng) AC380V;50Hz
總功率 2.2Kw
耗電量 清洗時(shí) 2.2w;待機(jī)時(shí):1Kw
傳動(dòng)馬力 3HP
離心轉(zhuǎn)速 可設(shè) 80-1800R/Min
環(huán)境過(guò)濾方式 過(guò)濾精度 0.5μm ;過(guò)濾效率 99.99%
空氣過(guò)濾方式 0.01μm×1(精)
清洗壓力 5-10Kgf/cm³
二流體霧徑 小于 30μm
機(jī)器凈重 約 160KG
想了解更多的wafer清洗機(jī)資料請(qǐng)咨詢長(zhǎng)電客服,我們可以根據(jù)您不同的制程定制不同的晶圓清洗設(shè)備以及清洗制程的自動(dòng)化設(shè)備升級(jí)。
關(guān)鍵詞:清洗機(jī)

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