AT-XTB-1000C狹縫式涂布試驗機產(chǎn)品簡介

      涂布試驗機由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，主要應用于狹縫擠出式涂布，應用范圍廣泛，包括:有機光伏電池,有機場效應晶體管,導電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管,鈣鈦礦光伏電池,鋰離子電池的電解質(zhì)和電極,染色敏感性太陽能電池.

        由于常規(guī)實驗室涂布試驗機，受到刮刀調(diào)節(jié)，底板平整度等的影響很難達到涂布納米級膜。狹縫式涂布試驗機底板采用多種平臺方式包括檢驗級大理石平臺，真空吸附平臺，精密模具鋼平臺，玻璃平臺等，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數(shù)控制濕膜厚度，同時高配版涂布機軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。濕膜厚度可以達到1微米，干膜厚度可以達到納米級別。在國內(nèi)光學膜涂布實驗室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應用。

AT-XTB-1000C狹縫式涂布試驗機主要技術(shù)參數(shù)

1.狹縫擠出頭材質(zhì)：不銹鋼

2.狹縫擠出頭涂布寬度：20-100mm

3.狹縫擠出墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊片套裝:   20 25 30 50  100mm墊片

4.電熱板溫度:室溫-150°C  

5.行程長度:10-300mm   

6.運動方式：刮刀運動  

7.速度范圍: 0-100mm/s

8.平臺材質(zhì):磨具不銹鋼

9.供墨方式：注射器  

10.供墨流量范圍:0-60ml/min

11.供墨流量精度:0.01ml/min

12.提前供墨時間范圍：0-9000ms

13.提前關(guān)墨時間范圍：0-9000ms

14.涂布頭與基片之間活動距離:10 mm

15.涂布頭調(diào)節(jié)方式：氣動升降+螺旋千分尺微調(diào)

16.平臺：真空吸附平臺（選配）

17.管道和接頭材質(zhì):聚四氟乙烯管，不銹鋼魯爾接口連接器至螺紋連接件

18.電源參數(shù)：100 - 240 V 50Hz

19.動力系統(tǒng)：進口精磨絲杠+進口直線導軌+伺服電機

20.重量：35kg

產(chǎn)品特點

本機通常采用緊湊的設計，占地面積小，適合各種規(guī)模的實驗室使用。這種設計不僅節(jié)省了空間，還使得設備在移動和安裝時更加便捷。同時，緊湊的結(jié)構(gòu)也意味著更高的穩(wěn)定性和耐用性，確保設備在長時間使用過程中能夠保持出色的性能。