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產(chǎn)品簡介
一、產(chǎn)品概述 1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。 2、產(chǎn)品特點/用途： ?設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低； ?適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等； ?適用于制備光學薄膜、導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜等。
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機詳細信息
名稱：高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機
型號：TEMD600
品牌：泰科諾
產(chǎn)地：北京
一、產(chǎn)品概述
1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產(chǎn)品特點/用途：
?設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
?適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等；
?適用于制備光學薄膜、導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜等。
| 型號 | TEMD600 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式圓柱形側(cè)開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng) |
| 真空腔室尺寸 | Φ600×H750mm |
| 加熱溫度 | 室溫～300℃ |
| 旋轉(zhuǎn)基片臺 | 平板型Φ350mm，或球罩型基片臺可選 |
| 膜厚不均勻性 | ≤±5.0% |
| 考夫曼離子源 | 可選 |
| 蒸發(fā)源 | 電子槍8KW 6穴坩堝 國產(chǎn)進口可選，配2-3組電阻蒸發(fā) |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統(tǒng) |
| 占地面積 | 長×寬：L2500×W1600mm |
| 總功率 | ≥17KW |
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