Ashizawa® 50 - 300 MORPH KDP® 研磨系統(tǒng)擁有的離心分離系統(tǒng),可以使用很小的研磨介質(zhì)
最小的研磨介質(zhì)從0.05毫米 – 2毫米,研磨的產(chǎn)品可以達(dá)到納米級別
有放大屬性
雙端面機(jī)械密封
操作安全、簡單、干凈
通過變頻器變速驅(qū)動
靈活的操作方式適合連續(xù)批次和循環(huán)操作
可以有兩個配置-移動或臺式
有四個研磨桶規(guī)格可選- 50、150和300毫升
可設(shè)置不同等級的操作員管理密碼保護(hù)
提供可選擇的數(shù)據(jù)采集
機(jī)架為IP65 的防水等級
可選的氧化鋯,316 不銹鋼或尼龍研磨桶設(shè)計
隨機(jī)提供設(shè)備檢驗文件
培訓(xùn)和研討會
Ashizawa® 500
可互換的攪拌系統(tǒng)
在危險地區(qū)安裝可選的防爆設(shè)計
PLC 控制與數(shù)據(jù)采集的可選接口
可選 CIP 和 SIP 準(zhǔn)備就緒
Ashizawa® 2000 - 6000
CIP 和 SIP 處理
PLC 控制
可選的數(shù)據(jù)記錄和流程配方管理
雙端面機(jī)械密封
浸濕部件和研磨工具的選擇
10升到4000升的批處理量
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