原位高溫高壓臨界反應(yīng)裝置（DM-HPHTCR-200/20）是一款適用于高溫高壓臨界反應(yīng)的原位測(cè)試裝置。該裝置采用自加熱方式，使用溫度為250℃?？赏ㄟ^外部增壓裝置對(duì)整個(gè)裝置進(jìn)行增壓反應(yīng)，耐受壓力為20MPa。適用于不同溫度和壓力條件下的臨界反應(yīng)過程中的X射線小角散射實(shí)驗(yàn)。

主要特點(diǎn)

1. 該原位高溫高壓臨界反應(yīng)裝置主體外殼材質(zhì)均采用316L不銹鋼精加工得到，保證能夠承受20MPa大氣壓；

2. 該裝置主體腔室采用電阻絲加熱方式，對(duì)其進(jìn)行整體加熱，加熱溫度范圍：RT-250℃，升溫速率控制在20℃/min以內(nèi)，溫度控制精度為±1℃；

3. 該裝置所有窗口均采用藍(lán)寶石膜窗口，透射窗口尺寸為φ8mm*0.5mm，透射光路尺寸為φ3.5mm，出射窗口尺寸為φ16*0.5mm，可視窗口尺寸為φ5mm； 其中進(jìn)光口設(shè)置有旋鈕功能，能夠?qū)?nèi)部腔室的厚度進(jìn)行適當(dāng)調(diào)節(jié)；

4. 該裝置能夠?qū)崿F(xiàn)加熱加壓條件下的X射線衍射（透射）數(shù)據(jù)采集，其出口衍射角2theta角保證大于等于35°；

5. 加熱主體外側(cè)設(shè)置有隔熱層，在主體裝置加熱加壓條件下仍然能夠保證外殼體溫度不高于60℃；

6. 主體腔室上方連接有氣路系統(tǒng)，配備一進(jìn)一出兩個(gè)球閥和一個(gè)氣體壓力表；

7. 該裝置系統(tǒng)配備一套溫度控制系統(tǒng)，除手動(dòng)操作外還可實(shí)現(xiàn)程序控制。