電化學(xué)工作站技術(shù)參數(shù)

硬件指標(biāo)：
1.恒電位儀/恒電流儀
2.電位掃描范圍：+15V—-15V
3.電流掃描范圍：+1000mA—-1000mA
4.電位上升時(shí)間：2uS
5.槽壓：30V
6.電極連接：二電極或三電極體系
7.量程：0.1pA—1000mA
8.輸入偏置電流：<50pA
9.電流測量分辨率：<0.1pA
10.數(shù)據(jù)采集：16位
11自動(dòng)iR降補(bǔ)償
12.掃描速度：1mv/s-10000mV/s
13.參比電極輸入阻抗：1.0E13次方歐姆
14.電位，電流低通濾波
15.CA和CC脈沖寬度：0.0001-10S
16.CA和CC階躍次數(shù)：320
17.DPV和NPV脈沖寬度：0.0001-10S
18.SWV頻率：1-100KHz
19.ACV頻率：1-10KHz
20.SHACV頻率：1-1KHz
21.IMP頻率：0.0001-100KHz
22.濾波參數(shù)：50Hz—1000KHz
23.電位分辨率：0.1mv
24.電流靈敏度：≤0.6PA

電化學(xué)工作站電化學(xué)方法

1.        循環(huán)伏安法CV

2.        線性掃描伏安法LSV

3.        階梯掃描伏安法SCV

4.        差示脈沖伏安法DPV

5.        常規(guī)脈沖伏安法NPV

6.        方波伏安法SWV

7.        階梯掃描溶出伏安法SCV

8.        差示脈沖溶出伏安法DPV

9.        常規(guī)脈沖溶出伏安法NPV

10.     線性掃描溶出伏安法LSV

11.     方波溶出伏安法SWV

12.     線性掃描極譜法LSV

13.     階梯掃描極譜法

14.     方波掃描極譜法

15.     差示脈沖極譜法DPV

16.     常規(guī)脈沖極譜法NPV

17.     電流-時(shí)間曲線法i-t

18.     控制電位電解庫侖法DE

19.     單階躍計(jì)時(shí)電位法CP

20.     雙階躍計(jì)時(shí)電位法

21.     單階躍計(jì)時(shí)電流法

22.     雙階躍計(jì)時(shí)電流法

23.     單階躍計(jì)時(shí)電量法

24.     計(jì)時(shí)電量法