真空均質(zhì)乳化機嚴格遵循《藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范》GMP總則(2010年修訂)第三十一、三十二條要求，并《壓力容器》（GB150—2011）、《鋼制焊接常壓容器(附標準釋義)》（NB/T 47003.1—2009）要求進行設(shè)計、制造及驗收。

真空乳化是指物料在真空的狀態(tài)下，利用高剪切乳化器快速均勻地將一個相或多個相分布至另一個連續(xù)相中，利用機械帶來的強勁動能，使物料在定轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中，每分鐘承受幾十萬次的液力剪切。離心擠壓撞擊撕裂和湍流等綜合作用，瞬時均勻地分散乳化，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復，最終得到無氣泡、細膩及穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

系統(tǒng)組成

真空均質(zhì)乳化機包括乳化攪拌罐、真空系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)、電器控制系統(tǒng)與操作平臺等部分組成。
乳化攪拌罐的罐體附帶裝置：液體進料口配不銹鋼管道過濾器、固體加料口、真空口、壓縮空氣進口、破真空口、視鏡、溫度傳感器、CIP清洗頭、出料口、防塵無菌呼吸裝置；

典型的應用
?適用于膏、霜、濃醬和蜜類等化妝品的理想生產(chǎn)設(shè)備，同時也是適用于制藥、食品、精細化工等高粘度物料行業(yè)中的有關(guān)生產(chǎn)。

產(chǎn)品特色

?與物料接觸部分材質(zhì)采用SUS316L優(yōu)質(zhì)不銹鋼制作，不留任何死角，設(shè)備內(nèi)外表面拋鏡面光，符合GMP要求。
?真空均質(zhì)乳化機配有CIP清洗系統(tǒng)，避免傳統(tǒng)清洗方式帶來的繁瑣，使清潔工作變的輕松、高效。
?攪拌系統(tǒng)采用雙重刮邊攪拌及變頻調(diào)速，可滿足不同工藝要求的生產(chǎn)。
?真空脫泡能使物料達到衛(wèi)生無菌要求，并可采用真空吸料，特別是粉料可避免粉塵飛揚。
?根據(jù)工藝要求，罐體可加熱或冷卻物料，加熱方式可根據(jù)客戶要求選用蒸汽或電加熱。
?*的電控系統(tǒng)采用PLC控制，并配有真彩觸摸屏，全面監(jiān)控物料溫度、攪拌及均質(zhì)轉(zhuǎn)速、時間等數(shù)據(jù)，實時檢測、記錄、打印各相關(guān)數(shù)據(jù)，可導入導出相關(guān)數(shù)據(jù)。

常規(guī)設(shè)計參數(shù)

設(shè)計壓力	罐體按客戶要求（—0.1MPa～0.8MPa） 夾套按客戶要求（0.02MPa～0.5MPa）
設(shè)計溫度	罐體、夾套按客戶要求（0℃～160℃）

材料

內(nèi)膽	304、316L
夾套	304
保溫層	巖棉
支腿等	304

表面處理

處理類型	機械拋光、電解拋光、噴砂、酸洗
拋光精度	內(nèi)壁 0.4μm，外壁 0.6μm

連接

進出口

快裝卡接、法蘭

真空上均質(zhì)乳化機     　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　       真空下均質(zhì)乳化機

真空均質(zhì)乳化機常規(guī)型號及主要技術(shù)參數(shù)

參數(shù)		型號	JTRZR—100	JTRZR—300		JTRZR—500		JTRZR—1000		JTRZR—1500			JTRZR—2000
有效容積：L			100	300		500		1000		1500			2000
攪拌	電機功率： kW		1.5	3		3—4		4—5.5		5.5—7.5			5.5—7.5
	攪拌轉(zhuǎn)速：r/min		65（可根據(jù)客戶使用情況進行調(diào)整設(shè)計）
乳化	電機功率： kW		2.2—4	3—7.5		5.5—8		7.5—11			7.5—11			11—15
	乳化轉(zhuǎn)速		2P（可根據(jù)客戶使用情況進行調(diào)整設(shè)計）
真空泵功率： kW			0.37		1.5		1.5		3			4			5.5
真空度：MPa			—0.09
加熱方式（選擇）			電加熱或蒸汽加熱

上表數(shù)據(jù)為標準型，僅供參考，可根據(jù)客戶要求定制。