薄膜蒸發(fā)器

AG!薄膜裝置是具有模塊化配置的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，用于小試及中試級(jí)別的高真空下的蒸餾濃縮純化等過程。在減壓條件下，液體經(jīng)離心刮膜形成薄膜而具有大的汽化表面積，使樣本蒸發(fā)速度加快，縮短生產(chǎn)周期。

• 高蒸發(fā)效率

• 熱分解少

• 氣體和真空密封

• 超高精度管體，均勻刮膜

• 玻璃夾套蒸發(fā)器，便于觀察

• 滯留時(shí)間段

• 適合熱敏材料

• 均勻旋轉(zhuǎn)刮膜系統(tǒng)

• 無脂磁力密封，閥門及接口

AG! DN100分子蒸餾裝置數(shù)據(jù)：

• 蒸餾面積：0.1 m2

• 最高使用溫度：200度

• 選配可達(dá)到300度

• 操作壓力范圍：0.1mbar～atm

• 夾套內(nèi)最大壓力：0.05Mpa

• 進(jìn)料速率：0.3 to 3.0 kg/h (DN 100)

• 粘度：Up to 1,000 mPa.s (Custom-made)

• 材料（接液or接氣部分）：高硼硅酸玻璃3.3，PTFE，F(xiàn)FKM，F(xiàn)KMor SS316

• 軸封最高轉(zhuǎn)速：400rpm

• 密封方式：磁力密封