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  • GⅠ、GⅡ、GⅢ型激光平面干涉儀 金相顯微鏡
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2025/5/18 9:43:08

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激光平面干涉儀用途:可廣泛用于工廠的計(jì)量室、光學(xué)車間和科研院所的實(shí)驗(yàn)室

GⅠ、GⅡ、GⅢ型激光平面干涉儀 金相顯微鏡詳細(xì)信息


GⅠ、GⅡ、GⅢ型激光平面干涉儀激光平面干涉儀用途:
  可廣泛用于工廠的計(jì)量室、光學(xué)車間和科研院所的實(shí)驗(yàn)室。光學(xué)平面的平面度測(cè)量、光學(xué)平板的微小楔角測(cè)量、光學(xué)材料均勻性測(cè)量、光學(xué)薄板波前誤差的測(cè)量。
特點(diǎn):
   防震性能好、有的條紋鎖定度、視場(chǎng)清晰、生產(chǎn)場(chǎng)所可用性優(yōu)于市場(chǎng)同類產(chǎn)品,大容量的工作室為大批量生產(chǎn)企業(yè)的大鏡面檢測(cè)提供了方便。
技術(shù)參數(shù):
  1. 標(biāo)準(zhǔn)平面(A面),工作直徑D1=Φ146mm,平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)

  2. 第二標(biāo)準(zhǔn)平面(B面),工作直徑D2=Φ140mm,平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)

  3. 準(zhǔn)直系統(tǒng)-----------------工作直徑Φ146mm,焦距 f = 400mm

  4. 光源規(guī)格-----------------激光ZN18(He-Ne)

  5. 干涉室尺寸----------------Φ480×380×285mm

選配件一:
  精密升降工作臺(tái)(適用GⅠ、GⅡ型)

用途:
主要用于平晶、平行平晶等非鍍膜面高精度平面度的測(cè)量與檢定以及儀器采用鈉光或汞光照明時(shí)的測(cè)量。

選配件二:
  透檢工作臺(tái)(適用GⅠ型)

用途:
主要用于超薄平行平板的波前誤差測(cè)量、光學(xué)平板微小楔角相對(duì)干涉測(cè)量以及光學(xué)材料折射率均勻性的偏差判斷。

選配件三:
  高反射面測(cè)量工作臺(tái)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)

用途:
主要用于鍍反射膜及高折射率材料(如硅、鍺等材料)表面精度的測(cè)量與檢定。

選配件四:
  顯示監(jiān)控系統(tǒng)(適用GⅠ型)

用途:
顯示監(jiān)控系統(tǒng)的應(yīng)用,可減輕操作者的勞動(dòng)強(qiáng)度,并可實(shí)施多人判讀與分析,以達(dá)到教學(xué)與監(jiān)控的目的。

選配件五:
  計(jì)算機(jī)影像系統(tǒng)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)

用途:
影像系統(tǒng)的應(yīng)用,可將被檢測(cè)鏡面的原始資料通過計(jì)算機(jī)保存和傳輸,以達(dá)到資料存檔及遠(yuǎn)程監(jiān)控、驗(yàn)收評(píng)定質(zhì)量的目的。

選配件六:
  倍率成像測(cè)微系統(tǒng)(適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型)

用途:
  主要用于目視精確量值的索得及小型被測(cè)件干涉條紋按要求放大測(cè)量與判讀。

技術(shù)參數(shù):
  測(cè)微目鏡放大率15X
   倍率成像測(cè)微目鏡適用范圍見下表:

規(guī)格 size

焦距 focal ength(mm)

放大倍率(β)
magnification

適用被測(cè)口徑
Working aperture

F15

151

0.56

Ф90~Ф150

F23

23

0.86

Ф50~Ф105

F37

37

1.39

Ф60以下

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