保持處于材料研究和開發(fā)的

海思創(chuàng)從1992年起就在范圍內(nèi)處于納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征的位置。通過與研究人員和工程師的持續(xù)合作，布魯克理解您的*需求，通過創(chuàng)新的技術(shù)幫助您解決當(dāng)下和將來面臨的材料挑戰(zhàn)。海思創(chuàng)TI 980 TriboIndenter是這些努力的集大成者。它提供了的性能，能滿足您持續(xù)更新的材料表征需求。

簡潔、高速的自動(dòng)控制

系統(tǒng)自動(dòng)校正使得每次測(cè)試都*

。 針尖面積函數(shù)自動(dòng)校正

。 傳感器自動(dòng)校正

。壓針和光學(xué)系統(tǒng)校正

自動(dòng)測(cè)試程序

?？焖?、多樣品自動(dòng)測(cè)試功能實(shí)現(xiàn)高通量表征

。 智能化自動(dòng)程序確保用戶選擇正確的針尖

。 高分辨多尺度成像結(jié)合全尺寸樣品的光學(xué)搜索，

極大簡化測(cè)試流程

的噪音水平，實(shí)現(xiàn)真正納米尺度表征

。從微米到幾個(gè)納米的多尺度測(cè)量

。 納牛級(jí)別的力噪音水平和小于90%原子直徑的位移測(cè)量能力，實(shí)現(xiàn)幾乎任何材料的定量表征

。系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)超過6個(gè)數(shù)量級(jí)的力測(cè)量和10個(gè)數(shù)量級(jí)的位移測(cè)量

。力和位移噪音水平保證在客戶現(xiàn)場(chǎng)安裝時(shí)實(shí)現(xiàn)

的反饋控制速率

精確控制測(cè)試過程

。實(shí)現(xiàn)精度、可信度和重復(fù)性的真正定量納米力學(xué)和納米摩擦學(xué)表征

。 特殊的力和位移反饋控制方法用于海思創(chuàng)的傳感器-專門針對(duì)海思創(chuàng)傳感器物理特性開發(fā)的力與位移反饋控制算法

。每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整反饋控制，使得系統(tǒng)能測(cè)量快速瞬態(tài)過程，并對(duì)其作出反饋，真正實(shí)現(xiàn)用戶的測(cè)試意圖-每隔0.013毫秒實(shí)現(xiàn)一次完整的感知-分析-控制的循環(huán)，使得系統(tǒng)能對(duì)瞬態(tài)過程進(jìn)行測(cè)量與反饋，以此重現(xiàn)用戶定義的測(cè)試方式

在納米力學(xué)測(cè)試上一步

nanoDMA III：動(dòng)態(tài)納米壓痕

布魯克的nanoDMA III是*的動(dòng)態(tài)納米壓痕技術(shù)。它提供了彈/塑性和粘彈性隨著壓入深度、頻率和時(shí)間的變化關(guān)系。

。 全面表征各種材料的普適性方法，從較軟的聚合物到硬質(zhì)鍍層都能適用

。 集成直流和交流調(diào)制使得從初始接觸點(diǎn)開始就能實(shí)現(xiàn)納米尺度動(dòng)態(tài)性能的可靠、定量表征

。 原位參考頻率法校正溫漂使得長時(shí)間測(cè)試的精度大大提高

XPM：快速力學(xué)性能成像

不論是測(cè)量分辨率和精度，還是測(cè)量速度，XPM都是納米力學(xué)測(cè)試的業(yè)界新。有了XPM，原來可能需要一整年才能獲得的數(shù)據(jù)，現(xiàn)在只需要一個(gè)下午就能獲得。這些的性能是通過以下三個(gè)業(yè)界的技術(shù)實(shí)現(xiàn)的。1）高帶寬靜電激勵(lì)傳感器；2）快速控制和數(shù)據(jù)采集電子系統(tǒng)；3）自上而下的原位掃描探針顯微鏡成像。這些技術(shù)聯(lián)用能實(shí)現(xiàn)每秒六次納米壓痕測(cè)試，從而獲得全面的定量納米力學(xué)性能圖譜以及性能分布的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。

更少時(shí)間測(cè)量更多參數(shù)

。 超高速定量力學(xué)性能測(cè)量（每秒6次測(cè)量）

。 快速、高分辨空間硬度和模量分布統(tǒng)計(jì)

。 一分鐘內(nèi)可靠完成針尖函數(shù)自動(dòng)校正

。 比傳統(tǒng)納米壓痕測(cè)試快500倍的數(shù)據(jù)采集速率

。 xSol 環(huán)境控制腔及載臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)環(huán)境條件下高通量測(cè)量

SPM+實(shí)現(xiàn)納米力學(xué)測(cè)試前后的準(zhǔn)確原位成像

布魯克的掃描納米壓痕技術(shù)使用同一根探針實(shí)現(xiàn)樣品表面形貌成像和納米壓痕測(cè)試。這種方法實(shí)現(xiàn)了的定位精度，并且可以在納米壓痕測(cè)試后立即對(duì)樣品塑性形變進(jìn)行成像，加快測(cè)試速度。

。 高定位精度（+/-10nm）

。 可以從64x64到4096x4096范圍內(nèi)設(shè)定掃描分辨率

。 可以對(duì)各種高長寬比的特征形貌進(jìn)行不同X-Y分辨率成像

。 業(yè)界的納米力學(xué)性能成像分辨率和調(diào)色板

。 可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol環(huán)境控制腔等聯(lián)用

*的系統(tǒng)控制和分析

TriboScan 10：*的測(cè)試靈活性提供了無限的測(cè)試可能性

。 將布魯克納米壓痕全套測(cè)試技術(shù)集成到一個(gè)直觀的軟件內(nèi)

。 基于標(biāo)簽頁架構(gòu)的軟件設(shè)計(jì)使得用戶可以方便的使用軟件功能

。靈活的測(cè)試過程分段定義方法提供了適用于所有測(cè)試模式的優(yōu)異控制

TriboIQ: 可編程數(shù)據(jù)分析程序

。易用的操作界面，從簡單到復(fù)雜的可定制數(shù)據(jù)分析包

。 直觀的數(shù)據(jù)組織和分析流程，簡單點(diǎn)擊即可生成數(shù)據(jù)報(bào)告

。 直觀可自定義的數(shù)據(jù)處理和分析模塊

。 開放式架構(gòu)使得多用戶合作更加容易