光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。
邁可諾技術（Mycro Technologies）是一家面向大中華及東南亞地區(qū)（包括中國、香港、澳門、中國臺灣、新加坡、馬來西亞、越南等地）科研院所和企業(yè)研發(fā)中心的研究人員，提供歐美日韓實驗室設備、耗材和的專業(yè)供應商。
壓片機
紫外掩膜對準光刻機/曝光機 產(chǎn)品信息
采購中心
