可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染??稍诟哒婵眨?高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。
儀器介紹:
華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布??蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。
它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講,都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系,安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)全新的溫度控制操作!
高真空退火爐
設(shè)備原理:
1. 輻射加熱
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。
2. 紅外線燈
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。
3. 反射光
反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。

設(shè)備特點(diǎn)
1. 高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
2. 溫度高精度控制
通過(guò)紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。
3. 清潔加熱
反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS
4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
更多應(yīng)用:
電子材料 | 半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻) |
熱源薄膜形成 |
激活離子注入后 |
硅化物的形成 |
陶瓷與無(wú)機(jī)材料 | 陶瓷基板退火爐 |
玻璃基板退火爐 |
鋼鐵和金屬材料 | 薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬 |
爐焊接模擬 |
高真空熱處理(1000°c以下) |
大氣氣體熔化過(guò)程 |
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐 |
復(fù)合材料 | 耐熱性評(píng)價(jià)爐 |
無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐 |
其他 | 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐 |
分段分區(qū)控制爐 |
溫度梯度爐 |
爐氣分析 |
超導(dǎo)陶瓷退火爐 |
用戶評(píng)論
發(fā)布評(píng)論